来源 :金融界2024-03-05
2024年3月5日消息，据国家知识产权局公告，TCL科技集团股份有限公司申请一项名为“薄膜的制备方法、薄膜、光电器件以及电子设备“，公开号CN117651462A，申请日期为2022年8月。
专利摘要显示，本申请公开了一种薄膜的制备方法、薄膜、光电器件以及电子设备，所述制备方法包括步骤：提供基板，在基板的一侧施加薄膜材料溶液，薄膜材料溶液包括第一溶剂和薄膜材料；对位于基板的一侧的薄膜材料溶液进行第一干燥处理，获得至少部分固化的第一膜层；采用第二溶剂溶解第一膜层，获得至少部分为液态的第二膜层；以及，对第二膜层进行第二干燥处理，以用于形成所述薄膜，其中，第二溶剂的粘度低于第一溶剂的粘度，和/或第二溶剂的表面张力低于第一溶剂的表面张力，和/或第二溶剂的沸点低于第一溶剂的沸点，有效提升了薄膜的成膜质量，所述薄膜能够用作光电器件的功能层，有利于提高不同批次光电器件之间的一致性。