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TCL科技申请薄膜相关专利,提高薄膜的空穴传输性能和稳定性

http://www.chaguwang.cn  2024-10-25  TCL科技内幕信息

来源 :搜狐网2024-10-25

  2024年10月25日消息,国家知识产权局信息显示,TCL科技集团股份有限公司申请一项名为“薄膜及其制备方法、发光器件及其制备方法、显示装置”的专利,公开号CN 118804616 A,申请日期为2023年4月。

  专利摘要显示,本申请公开了一种薄膜及其制备方法、发光器件及其制备方法、显示装置,所述薄膜的制备方法包括:提供金属氧化物颗粒、氧化银颗粒和溶剂,混合,得到分散液;提供基板,将所述分散液设置在所述基板上,得到液膜,采用红外光对所述液膜进行光照处理,得到薄膜。本申请所述的薄膜的制备方法中的光照处理既可以对液膜进行干燥又可以对液膜进行退火在光照处理的过程中,液膜中的氧化银可以吸收红外波段的光使自身会分解生成单质银和氧气,可以有效提高金属氧化物晶格的完整性和稳定性,进而提高薄膜的空穴传输性能和稳定性。

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