来源 :深交所互动易2024-11-14
cninfo740217问莱宝高科(002106)你好，董秘。首先恭喜公司一种掩膜装置、掩膜装置的制作方法和光刻设备专利公布，请问这是自研的还是和其他企业一起研制的？对公司有那些积极影响？
2024-11-11 14:46:22
莱宝高科答cninfo740217
尊敬的投资者：您好！上述发明专利为公司已自主研发出的技术，目前处于申请公开阶段，尚未获得授权，能否获得授权存在一定不确定性；公司使用该等技术目前用来提升触摸屏产品的分辨率等技术指标，设备制作精度仅为微米级别，与半导体行业的光刻设备的制作精度（一般精度为纳米级别）差距几百倍甚至上千倍，敬请您予以客观理性看待。谢谢！
2024-11-14 15:32:09