多氟多申请一种选择性BOE蚀刻液专利，实现较高的选择比

　　据国家知识产权局公告，多氟多新材料股份有限公司申请一项名为“一种选择性BOE蚀刻液“，公开号CN117511549A，申请日期为2023年10月。

　　专利摘要显示，本发明涉及一种选择性BOE蚀刻液，属于湿电子化学品技术领域。所述的蚀刻液成分为5?15wt％的氢氟酸、20?40wt％的氟化铵、0.1?0.6wt％的双组分抑制剂、0.02?0.2wt％的消泡剂、余量为超纯水；所述双组分抑制剂包括含三氟甲基的苯甲酰胺和双氧水。本发明双组分抑制剂中含三氟甲基的苯甲酰胺与双氧水协同作用，在金属表面形成较好的保护膜，在增加对氧化硅蚀刻速率的情况下仍能保持对金属较少的蚀刻，从而实现较高的选择比。