双星新材取得一种薄膜电晕处理表面的检测方法及系统专利，该专利技术能直观反应整体残留静电场，进而可以判断薄膜的电晕处理表面是否均匀

　　据国家知识产权局公告，江苏双星彩塑新材料股份有限公司取得一项名为“一种薄膜电晕处理表面的检测方法及系统“，授权公告号CN113686944B，申请日期为2021年8月。

　　专利摘要显示，本申请公开了一种薄膜电晕处理表面的检测方法，至少包括如下步骤：首先向薄膜的电晕处理表面释放粉末，然后根据附着在薄膜的电晕处理表面上的粉末分布图像，判断薄膜的电晕处理表面的均匀性。另外，本申请还公开了一种薄膜电晕处理表面的检测系统，至少包括一个向薄膜的电晕处理表面释放粉末的粉末释放装置以及设置在粉末释放装置的下方的下料筐。本申请通过向薄膜表面释放粉末，可以在整个薄膜表面形成宏观的粉末分布图像，可以直观反应整体残留静电场，进而可以判断薄膜的电晕处理表面是否均匀。本申请的方案简单易行便于操作，可以在极短时间内判断大面积的薄膜电晕处理表面的微观结构是否均匀。