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上海新阳:与Heraeus签订《合作备忘录》,推进半导体光刻胶发展

http://www.chaguwang.cn  2021-12-21  上海新阳内幕信息

来源 :势银膜链2021-12-21

  近日,上海新阳半导体材料股份有限公司发布了关于签订《合作备忘录》的公告,公告显示上海新阳与 HeraeusDeutschland GmbH Co. KG(以下简称“Heraeus”)签署的《合作备忘录》系双方就建立合作关系而签署的框架协议,为解决中国半导体供应链面临的新挑战,推进半导体光刻胶的发展,双方将深度合作,共同努力优化创新的光刻胶解决方案。

  

  图片来源:上海新阳

  公告称上海新阳作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商,自立项进行光刻胶项目研发以来,将突破集成电路高端光刻胶国外垄断,实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为发展目标,在ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破,部分产品已经拿到订单。

  上海新阳表示,公司与Heraeus签署本协议,旨在完善光刻胶供应链,为光刻胶项目的开展提供材料和技术保障,对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响,有利于加速落实公司发展战略,提高公司可持续发展能力。

  

  据上海新阳2021年第三季度报告显示,今年前三季度公司实现营业收入实现营业收入71,195.83万元,较上年同比增长46.31%;实现归属于上市公司股东的净利润8492.42万元,较上年同比下降51.99%。

  在先前的三季度业绩预告中,上海新阳表示:

  年初至报告期末,公司营业收入继续保持大幅增长,半导体和涂料业务销售收入均实现了50%左右的增长;

  由于公司开展光刻胶项目和参与国家重大科技项目,研发投入持续加大,研发费用增加明显。

  今年6月末,上海新阳发布公告称,公司自主研发的KrF(248nm)厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证,并成功取得第一笔订单。公告称,上海新阳开发的365nm I线、248nm KrF、193nm ArF干法及湿法光刻胶可适应国内0.35-0.11微米、90-28nm芯片工艺技术节点的需求。

  11月30日,上海新阳在投资者互动平台表示,目前KrF光刻胶有持续订单,ArF光刻胶尚在认证当中。

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