据势银膜链了解，截止到今年6月，虽受累于上半年上海疫情影响，上海新阳仍交出一份稳扎稳打的成绩单：公司今年上半年营业收入较去年同期增长25.63%，扣非净利较去年同期相比增长17.61%。
作为公司三大核心技术产品，上海新阳也透露了当前的光刻胶进展成果：公司自主研发的光刻胶产品已经销售，其中通过认证的KRF光刻胶产品客户数量不断增加，已进入国内主流芯片制造公司，6月份开始批量连续供应，测试认证中仍有多种产品。ArF光刻胶目前正处于客户端认证阶段，未来有很大的增长空间——
1、集成电路制造用高端光刻胶产品正在开发中，包括逻辑和模拟芯片制造用的I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法光刻胶，存储芯片制造用的KrF厚膜光刻胶，底部抗反射膜（BARC）等配套材料。
2、KrF光刻胶方面，KrF光刻胶产品通过认证客户不断增加，已在国内主流晶圆制造厂商处实现供货，目前已有订单客户超3家。
3、ArF光刻胶方面，ArF、ArF-i光刻胶研发进展顺利，已经形成两个系列试验产品，样品已经进入客户端进行测试，此外ArF浸没式光刻胶产品已有样品在测试阶段。
4、EUV光刻胶方面，已开始进行EUV光刻胶的前期摸索性基础研发，EUV光刻胶基本的研发工作正在进行中。
关键设备方面，上海新阳此前采购的ASMLXT1900Gi型光刻机尚处于调试状态；
新建产线方面，目前合肥一期项目基建工程已进入收尾阶段，机电安装正在进行中，预计三季度结束，四季度进行设备安装调试，年底进入试生产的阶段。规划产能为1.7万吨/年，明年具备量产能力，但何时达到量产规模要看产品在客户端测试验证的进度。
二期项目目前处在立项报备阶段，两期完成后，预计产能能满足未来几年的需求。据此前了解，合肥项目主要用于生产集成电路制造用电镀、清洗、光刻、研磨等关键工艺化学材料。该项目建成后将突破现有产能瓶颈，为新阳进一步加大国产替代速度奠定基础。
根据TECHET预测，2021-2025 年全球半导体材料市场规模将以超过6%的年复合增长率增长，其中光刻胶、工艺化学品、研磨液等化学材料也将以相似或更快的增长率增长。预计2022年全球光刻胶市场规模将达到21.34亿美元。国内芯片制造市场规模也会同样保持快速增长，对上游材料的需求将会日益提升。
作为上游材料企业，上海新阳也正把握这一市场机遇，在产能与研发上加大产出与投入。
上海新阳表示：“随着国家集成电路行业的蓬勃发展及半导体材料国产替代进程的加速，公司集成电路制造用关键工艺材料产品市场需求旺盛，公司于2019年启动集成电路关键工艺材料扩产项目，布局规划了清洗液、刻蚀液、电镀液及添加剂、光刻胶、研磨液等化学品材料产能，目前公司上海厂区年产能1.9万吨扩充目标已建设完成。为公司上半年产品放量增长提供支撑。”
此外，今年上半年上海新阳研发投入总额达0.52亿元，占本期营业收入比重为 9%，主要集中于集成电路制造用光刻胶、氮化硅和氮化钛蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、干法蚀刻清洗液项目。
上半年营收增长超25%，高端光刻胶项目已完成光刻胶验收
今年上半年，上海新阳实现实现营业收入54,949.81万元，较去年同期增长25.63%，实现扣非后归属于母公司净利润5,247.29万元，与去年同期相比增长17.61%。
来源：上海新阳2022年半年报
在建项目方面，据上海新阳2022年半年报显示，其集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目截止报告期末，进度为5.91%。
同时，上海新阳在该财报中表示，集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目与前次募集资金中193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目系同系列最终产品。此外，集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化及其他超高纯关键工艺材料扩产项已在今年上半年陆续完成光刻胶、清洗液等项目验收。