来源 :格隆汇2023-05-10
5月10日丨上海新阳(300236.SZ)于2023年5月9日15:00-16:30召开业绩说明会，就“公司开发的ArF干法光刻胶及ArF浸没式光刻胶产品制程分别为多少？”，公司表示，公司目前研发的ArF干法光刻胶主要适用于55-90nm芯片制程工艺，浸没式主要适用于45-28nm芯片制程工艺。