上海新阳取得化学机械抛光后清洗液的应用专利，清洗液具有更好地清除BTA的效果

　　2024年2月5日消息，据国家知识产权局公告，上海新阳半导体材料股份有限公司取得一项名为“一种化学机械抛光后清洗液的应用“，授权公告号CN113789519B，申请日期为2021年8月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种化学机械抛光后清洗液的应用。具体公开了一种清洗液在清洗化学机械抛光后的半导体器件中的应用，所述清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.01％?25％的强碱、0.01％?30％的醇胺、0.001％?1％的抗氧化物、0.01％?0.1％的表面活性剂、0.01％?0.1％的氨基酸、0.01％?10％的缓蚀剂、0.01％?10％的螯合剂和水，水补足余量，各组分质量分数之和为100％；其中，所述的氨基酸为组氨酸和半胱氨酸的组合。本发明的清洗液具有更好地清除BTA的效果。