来源 :苏州工业园区管委会2025-12-31
在苏州丝绸博物馆一处展柜前，一场“虚实对话”精彩上演：透过一块看似普通的透明玻璃，一名古装挎竹篮的采桑女悬浮半空，向游客演示古老的采桑制丝技艺。虚幻光影与古城地标北寺塔融为一体，引来参观者驻足观看。 这扇“未来之窗”的营造者，是苏州苏大维格科技集团股份有限公司。集团总裁办主任赵云龙揭秘：“这是我们自主研发的虚实融合空间显示系统，由精密光刻机在玻璃膜上‘雕刻’出复杂的微纳结构，通过衍射光波导技术精准操纵光路，光影得以脱离介质，编织进现实空间。”
这一“黑科技”是苏大维格深耕微纳制造领域二十余载的最新成果，不仅在丝绸博物馆实现虚实融合场景应用，更在高端装备制造领域赢得青睐。
作为我国最早从事全息数字化、微纳结构功能化与工程研究的企业，苏大维格以这种“纳米级”的原始创新，应答国家“十五五”规划建议中关于“加强关键核心技术攻关”与“先进材料取得决定性突破”的时代命题。
在公司实验室里，苏大维格自主研发的全球首套120英寸幅面的紫外三维直写光刻装备分外吸睛。这台“雕刻大师”实现了微纳制造从平面到三维的重大跨越。“传统的投影光刻多用于半导体平面加工，而我们要实现的是大面积、复杂三维结构的制备，这相当于在头发丝千分之一的细微处进行立体雕刻。”
赵云龙将微纳制造比喻为“微观版的活字印刷术”。微纳制造主要有两道核心工序：前道是“制版”，利用自研光刻机在纳米尺度上设计并“雕刻”出调控光电特性的结构；后道是“印刷”，通过纳米压印技术进行高保真批量“复制”。20多年持之以恒的深耕，苏大维格在高精度直写光刻、混合光刻等底层原理与工程化关键技术领域，以及纳米压印光刻设备连续化量产工艺等方面，取得“从0到1”的突破成果，三度斩获国家科技进步二等奖。
从实验室到生产线，十年磨一剑。“十五五”规划明确指出，要“加强原始创新和关键核心技术攻关”“全链条推动集成电路……先进材料、生物制造等重点领域关键核心技术攻关取得决定性突破”。苏大维格这种“全链条”的探索源于20多年前的科研初心。赵云龙回忆，公司初创期，高校科研成果的转移转化常面临从实验室到生产线的鸿沟。而苏大维格的创业，得以让这套从原理、算法到装备、工艺的逻辑全部跑通，从而跨越了从实验室到工程验证的“死亡谷”。
正是这种死磕原始创新的定力，让苏大维格逐步构建起“国家级平台+省级平台+创新联合体”的多层次协同创新体系。近期，公司战略性并购半导体光掩膜缺陷检测设备生产商常州维普，构建起“光刻制造+检测验证”的技术闭环。这种产业链的深度协同，正是“十五五”规划中“加快高水平科技自立自强，引领发展新质生产力”的生动注脚。
面向未来，苏大维格的创新发展规划越发清晰。“我们将聚焦微纳制造底层逻辑，助力国产核心装备与先进材料在‘十五五’时期实现真正的自主可控。”赵云龙说，公司将始终聚焦微纳制造领域的“一体化”原始创新，重点深化核心原理、算法、光学设计等底层技术探索；依托现有创新平台，加快实验室技术成果向产业化装备的转化进程；不断拓展光刻、纳米压印设备在半导体、光子芯片、AR光波导等高端领域的应用场景，全力打造“技术创新—装备量产—产业赋能”的完整产业链条，力争成为国内领先、国际一流的微纳光制造技术与装备平台。