富瀚微申请曝光控制专利，实现无光敏传感器的自动曝光控制

　　2024年3月26日消息，据国家知识产权局公告，上海富瀚微电子股份有限公司申请一项名为“曝光控制方法、曝光控制装置及存储介质“，公开号CN117768787A，申请日期为2023年11月。

　　专利摘要显示，本发明提供一种曝光控制方法、曝光控制装置及存储介质，包括：提供一参考亮度值，并进入曝光控制循环步骤；曝光控制循环步骤包括：获取当前帧图像的统计亮度值；判断所述参考亮度值和所述统计亮度值的差值的绝对值是否大于一预设阈值；若否，则判定当前处于曝光稳定状态，结束所述曝光控制循环步骤；若是，则判定当前处于曝光不稳定状态，并根据所述参考亮度值、所述当前帧图像的所述统计亮度值，生成一预测亮度值；根据所述预测亮度值，生成新的曝光参数；根据所述新的曝光参数，获取所述当前帧图像的下一帧图像；以所述当前帧图像的下一帧图像作为新的所述当前帧图像。本发明能够实现无光敏传感器的自动曝光控制。