江丰电子取得铜靶材及其制备方法专利，提升了溅射速率和镀膜质量

　　金融界2024年3月25日消息，据国家知识产权局公告，宁波江丰电子材料股份有限公司取得一项名为“一种铜靶材及其制备方法“，授权公告号CN113649509B，申请日期为2021年8月。

　　专利摘要显示，本发明提供一种铜靶材及其制备方法，所述制备方法包括依次进行的切料、第一锻伸、第一热处理、第二锻伸、第二热处理、冷锻、第三热处理、压制、第四热处理与抛光；所述第一热处理与第二热处理的温度分别为290?310℃；所述第三热处理与第四热处理的温度分别为250?270℃。本发明提供的制备方法减少了铜靶材内部缺陷，避免了晶粒组织异常现象，提升了晶粒细化程度，进而改善了溅射薄膜的厚度分布均匀性，提升了溅射速率和镀膜质量。