来源 :深交所互动易2024-11-28
irm1899034问国林科技(300786)华泰证券研报指出，在多重曝光光刻工艺，增量最大的是半导体材料，尤其是光刻环节相关（四次曝光）半导体材料中占比最大的是硅片达到35%，掩膜版占比为12%，光刻胶占比为6%！对子公司光刻胶利润有没有增量影响！
2024-11-22 21:20:12
国林科技答irm1899034
尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，相关工艺材料的增量增加，必然导致对于清洗设备的需求增加。公司将致力于产品研发，努力开拓相关市场，提升公司业绩。感谢您的关注。
2024-11-28 11:30:11