来源 :深交所互动易2025-08-11
irm1347477问国林科技(300786)公司您好，贵司的臭氧清洗设备能清洗光刻胶。但是不同制程的光刻胶所需要的清洗方式与清洗技术是不一样的。公司之前回复能满足清洗，但是对于公司的技术能力并没有一个很明确的说明。请问公司，目前最高级别的euv光刻胶，公司的设备能否满足其清洗要求？（就针对euv光刻胶而言）
2025-08-04 19:40:54
国林科技答irm1347477
尊敬的投资者，您好。光刻胶当下主要是SPM工艺，该工艺可以满足当下制程的要求，但是因为环保与经济型的考虑，一直以来国内外在开始研究用臭氧清洗替代，但目前处于工艺交替的初期，并没有完全成熟切换，根据工艺试验，臭氧水用于不同光刻胶的处理需要不同的浓度，一般需要满足85ppm以上的臭氧水浓度，目前国林半导体臭氧水发生器的浓度可以实现100ppm以上，最高到150ppm，因此可以满足使用。随着时间的推移以及工艺升级的需求，未来会是一种必然的趋势。感谢您的关注。
2025-08-11 20:45:10