来源 :深交所互动易2025-09-18
irm1347477问国林科技(300786)多重曝光，意味着需要多次沉积、光刻、清洗，对晶圆沉积、光刻胶、（硬）掩膜板以及清洗的需求都会大幅增加。例如：自对准四重曝光的前提是完成四层沉积。请问公司产品能否满足多重曝光（N+2、N+3）工艺对应的多次沉积和清洗的技术需求？
2025-09-17 14:15:30
国林科技答irm1347477
尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。
2025-09-18 11:30:12