来源 :曼恩斯特2025-04-10
真空镀膜技术是泛半导体制造的核心工艺，直接影响光伏电池、显示屏、新能源器件等产品的性能和量产效率。随着全球对钙钛矿光伏、柔性显示等高端技术的需求激增，市场对镀膜设备的精度、稳定性和多材料兼容性提出了更高要求。
在泛半导体领域精密涂布技术持续突破的浪潮中，曼恩斯特正式推出三大真空镀膜设备——单体磁控真空镀膜设备、磁控溅射连续线真空镀膜设备及卧式点源蒸镀设备，以差异化技术矩阵精准覆盖新能源、光伏、显示等核心产业需求，加速国产高端镀膜装备自主化进程。
单体磁控真空镀膜设备
单体磁控真空镀膜设备适用于硬质涂层、氢能源双极板、装饰等领域，可实现硬质膜、介质膜、导电膜的沉积。设备配置公自转转架，实现产品全方位镀膜。根据产品镀膜功能性选择需求，通过配置不同靶材，实现反应溅射或者单质溅射，达到最终的产品性能要求。
产品参数
/ MANST
产品特点
/ MANST
紧凑型设计
高度集成化设备外观
转架转速可调节
多元镀层沉积技术
公自转转架
转速可设定
可实现单一镀层沉积
多种镀层复合沉积
磁控溅射连续线真空镀膜设备
磁控溅射连续线真空镀膜设备适用于光伏、触控显示、光学、装饰、电磁屏蔽等领域，可实现介质膜、导电膜的沉积。针对钙钛矿光伏领域，设备配置低损伤阴极，可有效保护钙钛矿功能涂层，降低高能电子损伤。针对其他应用领域，通过配置不同的靶位材料，按照工艺顺序，依次布局靶位，可实现最终的产品效果。
产品参数
/ MANST
产品特点
/ MANST
模块化腔体设计
定制单面/双面镀膜靶位
连续性产品输出
定制化生产节拍
低电子损伤
镀层靶位设计
可根据客户定制
试验、中试、量产机型
卧式点源蒸镀设备
卧式点源蒸镀设备适用于光伏、OLED、QLED等领域，可实现有机材料、金属或者无机材料的沉积。设备配置分布式点源，根据材料物理特性，选择性的配置金属或者陶瓷点源，根据产品的幅宽，配置不同的点源数量。膜层沉积配置高精度晶控系统，可精确控制镀层厚度。在镀层均匀性上，采用PID与晶控联动的模式，控制点源蒸发温度以及材料蒸发速率。
产品参数
/ MANST
产品特点
/ MANST
模块化腔体设计
高精度蒸发源结构设计
定制化机型选择
定制化生产节拍
此次三大设备的发布，不仅填补了国产高端真空镀膜装备在精度控制与工艺适配性上的空白，亦为泛半导体产业核心技术突破注入了新动能。未来，曼恩斯特将持续深化精密涂布技术与真空镀膜工艺的融合创新，携手产业链上下游开拓更多元化的应用场景，一同助力行业高质量发展。