万华化学取得CN114891149B专利

　　据国家知识产权局公告，万华化学集团股份有限公司取得一项名为“用于贴片式面膜基材的多孔结构材料、含其的贴片式面膜及制备方法“，授权公告号CN114891149B，申请日期为2022年4月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种用于贴片式面膜基材的多孔结构材料、含其的贴片式面膜及制备方法，所述多孔结构材料由高内相乳液聚合而成，该面膜基材相比于传统基材如非织造布、蚕丝、果胶纤维类等天然纤维、水凝胶类等材料，具有更高的带液率和保液量、较好的透气性、与皮肤贴合性佳，且可以通过调控结构组成来达到很好的抑菌效果，相比于传统面膜基材，综合性能更佳。