万华化学申请尼龙制备专利，有效改善尼龙的加工性

　　据国家知识产权局公告，万华化学集团股份有限公司申请一项名为“一种含有环己烷并降冰片烷结构的二元胺和制备方法及在制备透明尼龙中的应用“，公开号CN117776939A，申请日期为2024年1月。

　　专利摘要显示，本发明公开一种含有环己烷并降冰片烷结构的二元胺和制备方法及在制备透明尼龙中的应用。本发明合成了一种含有环己烷并降冰片烷结构的二元胺单体，并与脂肪族二元酸或含降冰片烷的二元酸、脂肪族二元胺或含降冰片烷的二元胺共聚，合成了一种含有降冰片烷结构的透明尼龙，分子链上带有降冰片烷的环状结构会导致分子链规整性被破坏，结晶能力降低，有效改进尼龙的透明性，由于聚合物链中带有大量环状结构且为直链结构，有效改善了尼龙的加工性，具有出色的热学性能及机械性能，并且有着良好的耐溶剂性和低介电常数。