至纯科技：公司现在已经获得28nm全系列认证通过（包括湿法刻蚀、去胶、清洗、刷洗等工艺）

　　至纯科技(603690)很高兴看到贵公司在大力发展半导体清洗设备。贵公司2020年年报披露半导体设备收入2亿元左右，请问清洗设备在芯片制造流程中的设备占比一般是多少？目前国产替代情况如何，是否进入高端制程？公司在大力发展时是否有调研清洗设备的市场规模，前景怎么样呢？

　　您好，截至三季报报告期，公司湿法部门已经完成4.52亿的营收。目前，清洗设备占到晶圆厂的总投资额的8%-10%，随着制程每前进一个世代，清洗设备的需求会增加20%-30%。以4万片月产能的晶圆厂为例，逻辑代工厂需要80台左右的清洗设备，以无锡海力士为代表的存储代工厂，使用了120台左右的清洗设备，公司现在已经获得28nm全系列认证通过（包括湿法刻蚀、去胶、清洗、刷洗等工艺），已经切入国内龙头用户的高阶工艺应用，完全覆盖晶圆制造中包括先进制程逻辑电路、高密度存储、化合物半导体特色工艺等多个细分领域的市场需求。公司正在基于28nm的基础上，向14nm及14nm以下制程突破。目前公司正进入产能爬坡和供应链自主的发展阶段。目前国内对湿法清洗设备的需求在20-25亿美金的体量，公司有望在短期内取得不俗的市占率。感谢您的关注。