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至纯科技(603690)内幕信息消息披露
 
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至纯科技:但公司湿法清洗设备用于CMP、薄膜沉积工艺环节的前后环节

http://www.chaguwang.cn  2023-04-19  至纯科技内幕信息

来源 :上证e互动2023-04-19

  至纯科技(603690)公司在CMP、薄膜沉积等领域是否有技术储备?

  您好,这些都是硅片制造、晶圆制造环节必需的关键制程工艺,公司不直接生产这类设备,但公司湿法清洗设备用于这些工艺环节的前后环节,需要对这些工艺有较深刻的理解。

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