来源 :中微公司2022-07-21
7月16日至19日，2022国际显示技术大会在福建福州隆重举行，中微公司作为国内半导体和集成电路装备产业的领军企业受邀参加此次大会，公司MOCVD工艺技术总监胡建正博士作为特邀嘉宾发表演讲。
7月18日，中微半导体MOCVD工艺技术总监胡建正博士在MicroLED技术研讨会上作了题为《用于高端显示的绿光LED生长研究》的分享。
胡建正博士提到，如今基于化合物半导体材料的发光二极管（LED）已被广泛用于照明、显示、杀菌等行业，而随着miniLED和microLED在高端显示应用的兴起，如何提高绿光LED光电转化效率以及持续改善波长均匀性对促进其在mini/microLED高端显示领域的广泛应用尤为重要。
演讲分享了基于中微公司Prismo UniMax?MOCVD平台进行绿光LED的外延生长，分析了诸多因素对光电转化效率与波长均匀性的影响，并通过对特定因素的优化，提高了光电转化效率，并使得绿光LED的波长均匀性大大提高。
胡建正博士，中微半导体设备（上海）股份有限公司MOCVD工艺技术总监。胡建正先生拥有武汉大学学士和硕士学位、韩国明知大学博士学位，有10多年化合物半导体材料器件研发及设备开发经验。在氮化物材料与器件领域的国内外学术期刊及会议上发表30多篇论文，持有10多项专利。参与开发了Prismo D-blue, Prismo A7，Prismo HiT3，Prismo UniMax等具有自主知识产权的MOCVD产品。
演讲摘要
基于化合物半导体材料的发光二极管（LED）被广泛用于照明、显示、杀菌等行业。其中，红光LED和蓝绿光LED分别采用三族磷化物和氮化物制造。不同于红蓝光LED高达70%以上的外量子效率，发光波长介于两者之间的绿光LED的光电转换效率仍显著低于蓝光与红光LED，形成一个明显的效率低谷，也就是大家熟知的“Green Gap”。
随着miniLED和microLED在高端显示应用的兴起，除了光电转化效率，波长均匀性也变得至关重要。由于决定绿光LED发光波长的InGaN材料的铟组分对生长温度高度敏感，进而使得绿光LED的波长良率目前相较于红蓝光LED也处于明显的低谷。
主题分享采用中微公司Prismo UniMax MOCVD平台进行绿光LED的外延生长，分析了MQW结构、应力状态、外延生长气流、温场及托盘设计等诸多因素对光电转化效率与波长均匀性的影响。通过采用台阶与局部渐变铟组分量子阱，以及调节翘曲降低量子阱的压应力，有效缓解量子斯塔克效应，提高了光电转化效率。通过对温场、流场、托盘、衬底等诸多因素的优化，使得41x4”绿光LED的波长均匀性（1σ）从2nm降低到1.3nm，采用27x4”托盘生长的绿光LED波长均匀性进一步降低至0.93nm；6寸绿光LED的波长均匀性也降至1.08nm。对于绿光LED光电转化效率和波长均匀性的持续改善必将极大地促进其在mini/microLED高端显示领域的广泛应用。
关于ICDT
2022国际显示技术大会由国际信息显示学会（SID）北京分会、福州市人民政府、福州大学、国家新型显示技术创新中心和新型显示产业技术创新战略联盟主办，SID China与闽都创新实验室承办。
其中，技术研讨会作为ICDT里涵盖17个领域与450+报告的56个分论坛活动，邀请了国内外高校企业、科研机构的145+显示行业专家，共同分享与推动显示行业的前沿科技与创新发展。
关于中微半导体设备（上海）股份有限公司
中微半导体设备（上海）股份有限公司（证券简称：中微公司，证券代码：688012）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们正在改变人类的生产方式和生活方式。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户从65纳米到5纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用，中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备已在客户生产线上投入量产，目前已在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。