半导体设备厂商拓荆科技（688072.SH）风光了！
4月14日，二级市场上，拓荆科技强势20cm涨停，达到430.64元/股，股价一日上涨71.77元/股，市值增长超90亿元。
近一年来，拓荆科技的股价累计涨幅达5倍，目前的市值超过500亿元。
与股价大涨媲美的是，拓荆科技的经营业绩也在倍增。根据业绩快报，2022年，公司实现的归属于上市公司股东的净利润（以下简称“净利润”）3.69亿元，同比增长超4倍。
业绩大增，源于国内半导体设备需求旺盛，也与其较强的市场竞争力有关。公司称，其打破国际厂商对国内市场的垄断，与国际寡头直接竞争。
长江商报记者发现，拓荆科技是基金挚爱股，截至2022年底，基金持有1362.67万股，约占流通股总数的一半。
市值一年增加454亿
新股上市后，往往会出现股价回撤、调整，有的新股上市即顶点，让打新者损失不少。拓荆科技与之相反，其上市之时，股价为起点，牛股韵味十足。
4月14日，A股市场上，半导体板块整体起舞，拓荆科技风头正盛。当日，早盘，股价低开0.82%，迅速翻红拉升，早盘收盘，以涨停报收。午后，涨停板被打开，多空高位博弈1小时后，空方被打得抱头鼠窜，拓荆科技强势封死涨停，直至全天交易结束，收盘价为430.64元/股，涨幅为20%。
龙虎榜数据显示，当日，买入交易金额前五名者买入金额合计为4.82亿元，其中机构买入3.84亿元。卖出交易金额前五名者，卖出金额总合计为2.32亿元，其中机构卖出1.68亿元。机构买卖净额为2.16亿元。
2022年4月20日，拓荆科技通过闯关A股IPO登陆科创板，至今，上市近一年时间。
K线图显示，上市以来，总体而言，股价呈持续攀升趋势。期间，仅在2022年10月10日、11日两个交易日出现较大幅度调整。
去年4月20日，公司发行价为71.88元/股，到今年4月14日，收盘价430.64元/股，累计涨幅为499.10%，接近5倍。
市值方面，上市之初，公司估值为90.57亿元，目前市值为544.67亿元，上市以来增加了454.10亿元。
股价飙涨近5倍，除了A股市场环境因素外，与拓荆科技的基本面有关。
根据业绩快报，2022年，拓荆科技实现营业收入17.06亿元，较上年增加9.48亿元，同比增长幅度为125.02%。净利润为3.69亿元，较上年增加3.01亿元，增长幅度为438.09%。公司实现的扣除非经常性损益的净利润（以下简称“扣非净利润”）为1.78亿元，上年为亏损8200.19万元，同比实现扭亏为盈。
分季度看，去年一、二、三季度，公司实现的营业收入分别为1.08亿元、4.16亿元、4.68亿元，同比增长86.21%、658.42%、79.19%。对应的净利润为-0.12亿元、1.20亿元、1.29亿元，同比变动-15.02%、1336.55%、65.87%。
对比发现，四季度，公司实现的营业收入、净利润分别为7.14亿元、1.32亿元，同比增长85.94%、1100%。
对于2022年强劲倍增的经营业绩，拓荆科技解释称，受益于国内主要晶圆厂半导体设备需求增加，加上公司产品结构不断优化，产品竞争力持续增强，并进一步拓展客户群体，销售订单大幅增加，营业收入持续高增长。此外，公司收入规模扩大，期间费用率相对有所下降，规模效应驱动公司盈利水平提高。
拓荆科技成长较快。2010年成立，2018年，营业收入0.71亿元，净利润为亏损1.03亿元，2019年、2020年，营业收入分别为2.51亿元、4.36亿元，同比增长255.66%、73.38%，净利润为亏损0.19亿元、0.11亿元，亏损面逐年缩小。2021年，是IPO关键之年，也是公司转折之年，当年实现的营业收入为7.58亿元，同比增长73.99%，净利润为0.68亿元，同比增长696.10%，首次实现盈利。
国内唯一产业化设备厂商
拓荆科技经营业绩持续快速增长，有两个核心因素，一个是市场需求，另外一个是产品竞争力较强。
据披露，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务，其主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列。
晶圆，是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，是制作半导体器件的基础性原材料。薄膜沉积设备是晶圆制造的三大主设备之一，薄膜沉积是指在硅片衬底上沉积一层待处理的薄膜材料，薄膜沉积设备主要负责各个步骤当中的介质层与金属层的沉积，薄膜设备的发展支撑了集成电路制造工艺向更小制程发展。随着集成电路芯片技术的迭代升级，晶圆制造工艺不断走向精密化，芯片结构复杂度不断提高，所需求的薄膜沉积工序和薄膜种类随之增加，对薄膜性能的要求也日益提高。
薄膜沉积设备主要包括化学气相沉积（CVD）设备和物理气相沉积（PVD）设备，拓荆科技主要聚焦在CVD设备细分领域内的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、次常压化学气相沉积（SACVD）设备及原子层沉积（ALD）设备。
拓荆科技称，通过自主研发，公司形成了一系列具有自主知识产权的核心技术，并达到国际先进水平。其产品已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，打破国际厂商在高端半导体薄膜沉积设备领域对国内市场的垄断，与国际寡头直接竞争。目前，公司是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD设备和SACVD设备厂商，也是国内领先的集成电路ALD设备厂商。
毫无疑问，处于技术密集型领域，拓荆科技对技术的追求是坚持不懈的。2020年、2021年，公司研发投入分别为1.23亿元、2.88亿元，2022年前三季度为2.21亿元，同比增长70%。
2022年上半年，公司申请发明专利11件，获得授权10件。截至2022年6月底，公司累计申请发明专利502件，累计获得授权发明专利107件。
那么，拓荆科技的客户主要有哪些呢？
拓荆科技披露的投资者关系记录表显示，公司产品主要应用于国内晶圆厂，已经进入国内60多条产线，包括中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线。
2022年前三季度，拓荆科技毛利率、净利率分别为48.32%、23.67%，同比上升2.54个百分点、8.41个百分点。