拓荆科技：ALD设备系列产品已实现量产，SACVD和HDPCVD设备均已实现产业化

　　金融界9月18日消息，拓荆科技披露投资者关系活动记录表显示，公司研制的ALD设备系列产品包括PE-ALD设备和Thermal-ALD设备，其中PE-ALD设备已实现量产，可以沉积SiO2、SiN等介质薄膜材料，Thermal-ALD设备已出货至不同客户端进行验证，可以沉积Al2O3等金属化合物薄膜。同时，公司的SACVD和HDPCVD设备也已实现产业化。公司将持续保持产品核心竞争优势，不断扩大量产应用规模。此外，公司晶圆对晶圆键合产品（Dione 300）已通过客户验收，并获得了重复订单，芯片对晶圆键合表面预处理产品（Pollux）已出货至客户端验证。