华海清科申请化学机械抛光装置和抛光方法专利，实现在线修整抛光垫表面

　　2024年2月8日消息，据国家知识产权局公告，华海清科股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光装置和抛光方法“，公开号CN117506712A，申请日期为2023年12月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种化学机械抛光装置和抛光方法，所述化学机械抛光装置包括：抛光盘；承载头，用于装载待抛光晶圆；供液组件，与承载头一一对应，其包括供液臂，供液臂配置有多个供液管，以朝向抛光盘上方的抛光垫供给抛光液；在线修整组件，集成于供液组件并位于供液臂侧方，以在线修整抛光垫表面。