微导纳米取得基片处理设备及处理方法专利，避免在腔体内产生积粉

　　2024年1月29日消息，据国家知识产权局公告，江苏微导纳米科技股份有限公司取得一项名为“基片处理设备及处理方法“，授权公告号CN116334589B，申请日期为2023年3月。

　　专利摘要显示，本申请公开了一种基片处理设备及处理方法，属于基片处理技术领域。基片处理设备包括腔体以及容置在腔体内的多个单元气室，多个单元气室上对应开设有开口，单元气室内分别通入有处理气体，当待沉积基片穿过开口在多个单元气室间移动时，每个单元气室内的处理气体均可对待沉积基片进行处理；腔体内通入有隔离气体，隔离气体不与处理气体发生反应，隔离气体用以阻止处理气体通过开口溢出。本申请所提供的基片处理设备，通过将多个彼此独立的单元气室容置在腔体内，使得各个单元气室内的处理气体无法相互接触而发生反应，从而避免在腔体内产生积粉。