富创精密申请真空矩形阀门专利，提升半导体阀门技术领域

　　据国家知识产权局公告，沈阳富创精密设备股份有限公司申请一项名为“一种适用于半导体行业的真空矩形阀门“，公开号CN117823642A，申请日期为2023年11月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种适用于半导体行业的真空矩形阀门，涉及半导体阀门技术领域。该适用于半导体行业的真空矩形阀门，包括：阀盒，所述阀盒左端设置有阀板，所述阀板左端设置有传动轴，所述传动轴左端连接有腔体连接板，所述腔体连接板左表面设置有上限位座，所述腔体连接板左表面两端连接有外壳，所述传动轴左端设置有导向支撑座，所述导向支撑座左端设置有分力轴，所述分力轴与传动轴连接，所述外壳内侧连接有斜齿条，所述斜齿条下端啮合连接有斜齿轮，所述斜齿轮内部连接有从动轴，所述导向支撑座左右两端连接有传动轴安装板，所述传动轴安装板外侧连接有深沟球轴承，所述分力座左端设置有气缸连接板，所述气缸连接板左端连接有气缸。