来源 :金融界2023-12-04
金融界2023年12月4日消息，据国家知识产权局公告，绍兴中芯集成电路制造股份有限公司申请一项名为“快恢复二极管及其制作方法“，公开号CN117153679A，申请日期为2023年10月。
专利摘要显示，本发明提供一种快恢复二极管及其制作方法，所述方法包括：提供衬底，在衬底的正面形成第一金属层；在第一金属层上形成金属连接层；在金属连接层上形成第二金属层，第一金属层、金属连接层以及第二金属层共同作为正面金属层；其中，第一金属层与第二金属层的材料相同，金属连接层与第一金属层、第二金属层的材料不相同，金属连接层用于隔开并电连接第一金属层与第二金属层。本发明中通过金属连接层设置，降低了在衬底上形成的柱体的高度，并且能够避免第二金属层中形成柱体，从而避免封装后RRSOA时器件失效。同时金属连接层还阻挡外部气体穿透正面金属层，避免外部气体对衬底造成腐蚀，从而避免出现IR漏电。