奥特维取得新型专利，使用伯努利效应非接触保持硅片

　　据国家知识产权局公告，无锡奥特维科技股份有限公司取得一项名为“一种硅片吸附机构、换向机构及收片装置“，公开号CN220033030U，专利申请日期为2023年。

　　专利摘要显示，本实用新型公开了一种硅片吸附机构、换向机构及收片装置，硅片吸附机构包括至少两条平行设置的输送带以及至少两个与输送带一一对应的吸附单元，吸附单元沿输送带的输送方向延伸设置，每个吸附单元均包括基座和导流件，基座靠近对应的输送带安装且至少用于支撑输送带的输送面；导流件安装在基座上，导流件和基座之间形成有气腔，导流件和基座之间形成有与所述气腔联通的气流引导部，导流件上设置有供气口，压缩气体经供气口进入气腔，再经气腔从气流引导部流出以基于伯努利效应产生的负压将硅片非接触地保持在输送带的输送面上。上述硅片吸附机构的吸附单元的吸附力沿输送带的输送方向分布，吸附时不容易造成硅片变形。