来源 :上证e互动2025-10-27
龙图光罩(688721)董秘你好，请问贵公司跟上海微电子和深圳新凯莱有哪些业务合作？贵公司能为中国国产光刻机提供哪些技术和产品？
尊敬的投资者，您好！公司高度重视与产业链各伙伴的合作机会。半导体掩模版是光刻工艺中不可或缺的关键部件。公司目前已掌握包括图形补偿（OPC）技术、精准对位标记技术、电子束光刻技术等在内的多项核心技术，工艺能力从130nm逐步提升至65nm，并已完成40nm工艺节点的生产设备布局。这些技术能力同时也是支持设备测试与性能验证、支撑光刻工艺精度和良率的重要基础。关于公司的具体客户情况、重大合作进展等详细信息，还请您以公司在法定披露媒体发布的定期报告或临时公告为准。感谢您对公司的关注！