中芯国际5nm良率已达70%！？

　　近日微博大V@定焦数码分享了关于中芯国际先进制程的一些令人振奋的消息。

　　

　　

　　爆料称，中芯国际5纳米制程的良率已提升至60%-70%。不过该传言遭到X账号Jukanlosreve的强烈质疑，称其为编造内容。据Jukanlosreve此前透露，中芯国际计划在2025年前完成5纳米芯片开发，但由于采用深紫外光（DUV）微影设备而非极紫外光（EUV）设备，预计成本将增加50%。

　　“定焦数码”还指出，中芯国际5纳米良率与三星电子3纳米GAA制程相当。后者已被用于生产Galaxy Z Flip 7搭载的Exynos 2500芯片。然而，Wccftech报道称，基于中芯国际目前的技术进展，Jukanlosreve对传言的驳斥并不令人意外。