事件：

    　　公司于5月31日晚间发布公告，控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破，表明公司光刻胶产品已具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求。

    　　投资要点：

    　　ArF光刻胶再获认证，关键半导体材料实现突破半导体光刻胶目前国内自给率极低，供给端基本被日美企业垄断，行业前五市占率达87%。其中g线/i线光刻胶自给率约为20%，KrF光刻胶自给率不足5%，而ArF光刻胶完全依赖进口，对我国芯片制造形成“卡脖子”风险。

    　　公司继去年12月通过50nm闪存平台认证通过后，近日又再次获得55nm逻辑电路平台认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，打破了国内先进光刻胶受制于人的局面。公司目前已完成两条光刻胶生产线的建设，预计未来光刻胶年产能达25吨（干式5吨和浸没式20吨）。

    　　日本光刻胶停产断供，国产替代需求迫在眉睫供给端近日日本福岛7.3级地震导致光刻胶龙头信越化学停止供货部分晶圆厂光刻胶，在产线受到影响和晶圆厂扩产等多方因素下，信越化学已向中国大陆多家一线晶圆厂限制供货光刻胶，且已通知更小规模晶圆厂停止供货光刻胶。需求方面国内中芯国际、华虹宏力、广州粤芯等多家国内晶圆厂也在积极扩产，国内光刻胶需求量远大于国产产量且差额连年增长，尤其在ArF、高端KrF等半导体光刻胶方面，国产替代需求迫切。

    　　盈利预测

    　　维持公司21-23年净利预测1.42、1.59、1.75亿元，维持“增持”评级。

    　　风险提示

    　　公司研发与量产进度不及预期，下游客户需求不达预期。