公司近况

    7月21日，根据公司官方微信公众号，捷佳伟创全资孙公司创微微电子，成功交付3套集成电路全自动槽式湿法清洗设备至客户处进行大批量生产。

    评论

    首批半导体清洗设备交付客户，成功拓展半导体领域。捷佳伟创全资子公司常州捷佳创2020年9月投资成立了创微微电子，从事集成电路湿法清洗工艺设备的研发、生产和销售。公司已取得重要客户在槽式湿法清洗设备上的批量订单，除此次交付的设备，公司正在设计制造用于MicroLED、第三代化合物半导体及集成电路IDM厂的槽式清洗设备及相关附属设备，涵盖了集成电路200mm以下近70％湿法工艺步骤。此次首批半导体清洗设备成功交付，也代表公司实现了从光伏设备往泛半导体设备的拓展。

    清洗为半导体制程重要环节，设备单价较高。清洗用于去除半导体硅片制造、晶圆制造和封装测试每个步骤中可能存在的杂质。每一步光刻、刻蚀、沉积等重复性工序后，都需要一步清洗工序，约占所有芯片制造工序步骤的30％以上。清洗设备可分为槽式和单片两大类，槽式设备是将多片晶圆（100-200片）同时放入槽中清洗，因此产能高，但交叉污染风险大，无法满足28nm及以下技术节点要求；单片设备是将单个晶圆在腔体中进行独喷淋式清洗，具有较高的微粒去除能力，但设备产能仅为槽式的35-60％。

    根据盛美股份招股说明书，2020年公司半导体槽式清洗设备销售单价在1,600万元／台左右，设备价值量较高。

    清洗设备国产化空间大，易率先获得突破。Gartner预计2024年中国大陆半导体设备市场空间为128亿美元，清洗设备在半导体设备市场中价值量占比约5-6％，因此我们预计2024年中国大陆半导体清洗设备市场空间为40-50亿元人民币。目前清洗设备国产化率仅为20％左右，国内主要设备厂包括盛美半导体（单片为主）、至纯科技（单片＆槽式）、北方华创（单片＆槽式）、芯源微（单片为主）。清洗设备较光刻、刻蚀等核心设备价值量较低，同时技术门槛也低于光刻和刻蚀，因此更易率先突破国产化。

    估值与建议

    维持2021／22e盈利预测9.52／12.37亿元，当前股价对应2021／2022 P／E为51／39x，考虑到公司半导体设备进展超预期，上调目标价20％至170.72元，对应2021／22年62／48x目标P／E，潜在涨幅21.8％，维持“跑赢行业”评级。

    风险

    新技术进步不及预期，应收账款回收风险。