21Q1 设备收入高速增长，三维度布局发展战略明晰4 月27 日公司发布一季报：21Q1 营收6.03 亿元，同比+46%，归母净利1.38 亿元，同比+425%，扣非后0.11 亿元，同比+279%，半导体刻蚀设备及MOCVD 设备销售同比高增长、毛利率提升、政府补助增加（计入当期损益的政府补助较上年同期增加1.43 亿元）是利润同比显著提升的主因。

    　　公司三维度布局规划：深耕集成电路关键设备领域、扩展在泛半导体关键设备领域应用、探索其他新兴领域的机会；其中IC 设备领域公司考虑扩大刻蚀设备竞争优势，延伸到薄膜、检测等其他关键设备领域。维持盈利预测，预计21-23 年EPS 为0.71、1.07、1.48 元，增持评级。

    　　21Q1 半导体刻蚀设备、MOCVD 设备收入高速增长，研发投入持续加大2021Q1 营业收入高速增长，其中：受益于半导体设备需求高涨及公司产品竞争优势强化，刻蚀设备和MOCVD设备收入分别达3.48 亿元和1.33 亿元，较上年同期分别增长63.75%、76.85%。受益于部分专用设备毛利率提升，21Q1公司毛利率同比+7.06pct 至40.92%。研发投入占收入比重达23.31%，同比+5.79pct。

    　　刻蚀设备技术迈向世界先进水平，紧密契合国内外主流晶圆厂前沿工艺主要产品进展：1）CCP：多款产品批量应用于国内外一线客户产线，在部分客户的采购中份额已进前三；先进逻辑IC 方面成功取得5nm 及以下产线重复订单，存储方面在64 及128 层3D NAND 产线得到广泛应用，重复订单稳步增长，同时积极布局动态存储应用并开始工艺开发及验证；公司与主流客户积极合作，正开发更先进CCP 产品。2）ICP：Primo nanova 在10家客户产线进行验证，已有超50 个工艺达到客户产线指标要求，20 年开始逐步取得客户重复订单，下半年国内存储客户扩产带动销售取得较大进展。

    　　具有高输出率特点的双反应台Primo Twin-Star 也已经在客户端完成认证。

    　　潜力深远的半导体设备国产化先锋，维持“增持”评级考虑到公司刻蚀设备技术及市场突破高速推进，多维发展路径明晰，我们维持盈利预测， 预计2021~23 年归母净利润为3.8/5.7/7.9 亿元，PE160/106/76 倍，PS 19/15/12 倍。科创板半导体设备可比公司21 年PE、PS 均值为76、20 倍（Wind 一致预测），我们认为中微作为国内最为领先的半导体设备公司之一，其突出的技术及研发实力、海内外市场地位在本土稀缺度高，应有一定估值溢价，维持21 年PS 21x，目标价123.53 元。

    　　风险提示：半导体周期性波动；国内芯片技术突破、产业投资不及预期；公司技术突破慢于预期：海外疫情加剧；知识产权争议和海外技术封锁；股东减持引发股价波动的风险。