事件概述

    公司发布2021 年半年度报告，上半年实现营业收入13.39 亿元，同比增长36.82%，实现归属于上市公司股东的净利润3.97 亿元，同比增长233.17%，扣非后净利润0.62 亿元，较上年同期增加约0.21 亿元，同比增长53.35%。加权平均净资产收益率为8.56%，同比增长5.44 个百分点。基本每股收益为0.74 元，同比增长236.36%。

    分析判断：

    Q2 业绩创历史新高，刻蚀设备营收大幅增长

    2021 年上半年公司收入同比增长36.82%，主要受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势。公司 2021 年上半年刻蚀设备收入为 8.58 亿元，同比增长83.79%，毛利率达到44.29%。上半年 MOCVD 设备收入为2.19 亿元，同比下降约10.08%，毛利率达到 30.77%，较去年同期大幅度提升。公司整体毛利率为 42.34%，同比去年提升了约 8.42 个百分点。

    上半年度归属于上市公司股东的净利润较上年同期增加约2.78 亿元，增长约233.17%。计入当期损益的政府补助较上年同期增加约 1.44 亿元。分季度看，第二季度公司实现营收7.35 亿元，同比增长29.95%。归母净利润为2.59 亿元，创单季度历史新高，同比增长178.87%。第二季度毛利率为43.50%，同比提升9.54 个百分点，净利率为35.20%，同比提升18.79 个百分点。2021 年上半年新签订单金额达 18.89 亿元，同比增长超过 70%，且部分 Mini-LED MOCVD 设备规模订单已进入最后签署阶段。

    持续加大研发投入，高端产品不断获得认可

    公司主要为集成电路、LED 外延片、功率器件、MEMS 等半导体产品的制造企业提供刻蚀设备、MOCVD 设备及其他设备。随着下游市场的拓展和政府的大力推动，我国集成电路和泛半导体产业持续成长，中国大陆半导体设备市场规模在全球的占比逐年提升。根据 SEMI 报告，2020 年中国大陆半导体设备市场规模为 187.2 亿美元，同比增长 39%，首次超过中国台湾地区和韩国，成为全球最大的半导体设备区域性市场。公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65 纳米到14 纳米、7 纳米和5 纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司MOCVD 设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，已成为世界排名前列的氮化镓基LED 设备制造商。上半年公司研发投入达到2.86 亿元，占营业收入的比重为 21.40%，截至2021 年6 月30 日，公司已申请1,870 项专利，其中发明专利1,613 项；已获授权专利1,106 项，其中发明专利945 项。

    定增项目顺利推进，持续做大做强主业

    上半年公司定增共募集资金82.07 亿元，扣除发行费用后，收到再融资募集资金净额81.25 亿元，其中国家集成电路产业基金二期获配2444.03 万股，占本次发行数量的30.46%，获配金额约25 亿元，本次发行后持股比例为3.97%。募集资金主要投向公司产业化基地建设项目、中微临港总部和研发中心项目及科技储备资金。中微产业化基地（临港）主要承担现有产品的改进升级、新产品开发生产及产能扩充，包括等离子体刻蚀设备（630 腔/年）、MOCVD 设备（120 腔/年）、热化学CVD 设备（220 腔/年）、环境保护设备（180 腔/年）。南昌产业化基地主要承担较为成熟的大规模量产及部分产品的研发升级。中微临港总部研发中心项目将搭建从研发到投产的全周期研发平台，开展高端半导体、泛半导体领域相关产品与设备制造的研发工作。目前产业化建设项目正在顺利推进中，持续提升公司综合竞争力。

    投资建议

    考虑到公司刻蚀设备和 MOCVD 设备在客户持续获得突破，上调此前盈利预测，我们预计 2021-2023 年公司营收分别从30.85 亿元、41.28 亿元、53.10 亿元上调为32.47 亿元、44.18 亿元、56.82 亿元，归母净利分别从5.05 亿元、6.41 亿元、8.32 亿元上调为5.72 亿元、7.24 亿元、9.32 亿元。

    2021-2023 年实现每股收益为0.93 元/1.17 元/1.51 元，对应现价 PE 分别为 196 倍、155 倍、120 倍，我们看好公司作为国内刻蚀设备龙头，随着国内半导体行业对上游设备需求的不断提升，公司收入和净利润有望实现持续增长，维持“买入”

    评级。

    风险提示

    新产品新技术研发低于预期、国产化替代进展低于预期、中美贸易摩擦加剧。