公司发布 2021 年半年报。报告期内，公司实现营业收入 13.39 亿元，同比增长 37%；实现归母净利润 3.97 亿元，同比增长 233%。其中，刻蚀设备收入 8.58 亿元，同比增长 84%，主要受益于半导体设备需求旺盛及公司产品竞争优势；MOCVD 设备收入 2.19 亿元，同比下降 10%，主要受市场需求影响。公司上半年毛利率 42%，其中 2021Q2 毛利率 43.5%。

    　　公司产品持续迭代，新增订单大幅增长。公司 CCP 产品保持竞争优势，5nm 以下产线获得重复订单，在 64/128 层 3D NAND 广泛应用。公司 ICP已经在 10 家客户产线上验证，截止 2021/06 累计发货 100 台反应腔。公司用于高性能 Mini LED 量产的 MOCVD 设备已经发布，并获得国内领先客户的批量订单。2021H1，公司新签订单金额 18.9 亿元，同比增长超过70%，且有部分 Mini-LED MOCVD 设备规模订单进入最后签署阶段，订单需求强劲。

    　　持续加强研发投入，打造创新文化研发团队。公司研发投入 2.9 亿元，同比增长 38%；研发费用 2.4 亿元，同比增长 31%。研发投入占营收比重为 21%，高于行业均值。截止报告期末，公司研发人员 348 人，比上年同期增长 50 人，占员工总数 38%。公司创始人和技术人员拥有国际领先半导体设备公司的从业经验，研发团队覆盖多个学科，积累丰富的经验、技术和专利储备，并形成良好的创新文化。公司在研项目涉及众多涵盖先进逻辑、DRAM、3D NAND 刻蚀设备、外延设备、薄膜设备等。

    　　公司定增加码布局，内生外延共同推进平台化建设。公司定增募集资金总额 82.1 亿元，其中大基金二期认购 25 亿元。定增资金拟约 31.7%用于扩产及开发新产品线；约 37.6%用于刻蚀、MOCVD、热化学 CVD 等 7 大类新产品研发产业化；约 30.8%科技储备资金用于公司与合作伙伴在新产品的协作开发项目、对外投资并购项目等需求，公司已投资沈阳拓荆、睿励仪器、山东天岳等公司，布局薄膜、检测设备、碳化硅衬底材料等领域，内生外延推动平台化建设进程。

    　　半导体刻蚀设备龙头，打造旗舰平台型企业。公司成功打造一支具有创造力和核心竞争力的技术团队，并成功打开商业化空间。公司 MOCVD 持续升级，CCP 产品涵盖国内外一线客户，ICP 产品快速迭代并放量，并继续布局半导体设备新产品线，打造半导体设备旗舰企业，并通过外延投资沈阳拓荆、睿励仪器、山东天岳等公司推进平台型建设。预计公司2021~2023 年归母净利润 6.70/6.67/7.99 亿元，维持“买入”评级。

    　　风险提示：下游需求不及预期、新产品进展不及预期