事件概述：

    公司发布2021 年报：实现营收31 亿元，同比+37%，归母净利10.11 亿元，同比+105%，扣非归母净利3.24 亿元，同比+1291%，三项指标基本符合此前业绩快报指引。经测算，公司21Q4 实现营收10.35 亿元，环比+41%，同比+30%，该季度归母净利为4.70 亿元，环比+224%，同比+118%，对应扣非归母净利润为1.59 亿元，环比+54%，同比+132%。

    刻蚀设备营收大幅增长，MOCVD 毛利率显著提升公司营收、净利的快速增长，主要系刻蚀设备在21 年实现强劲增长：该设备创收20 亿元，同比增55%，毛利率达44.32%。MOCVD 由于规模订单尚未确认收入，全年实现收入5 亿元，同比增1.53%，但毛利率由20 年的18.65%大幅提升至21 年的33.77%，其背后是公司MOCVD 设备在行业领先客户产线上大规模投入量产，规模效应显现。利润方面，公司20、21 年股权激励费用分别为1.24、2.15 亿元，若加回股权激励费用，则21 年扣除其他非经常损益的利润为5.39 亿元，较20 年的1.47 亿元增267%。展望2022 年，公司截至21 年末合同负债13.7 亿元，较21Q3 季末的9 亿元新增近4.7 亿元，21 年新签订单41.3 亿元——高于21 年营收，显现出2022 年充沛的成长动能。

    CCP 刻蚀市占率持续提升，ICP 刻蚀趋于成熟1）CCP：21 年CCP 刻蚀设备付运298 腔，同比增40%，产品批量使用于国内外一线客户的IC 产线，在部分客户市占率已进入前三。在先进逻辑方面，公司成功取得5nm 及以下产线的重复订单，存储电路方面，公司设备在64 层、128 层3D NAND 产线得到广泛应用，该产品有望伴随3D NAND 工厂产能爬升而实现稳步增长。此外，针对成熟工艺高景气，公司于21M6 推出首台8 寸CCP 刻蚀，有望充分把握功率半导体等领域的需求景气。2）ICP：公司ICP 设备已在超过15 家客户产线的100 多个ICP 刻蚀工艺上进行验证，在部分工艺已实现量产。公司在ICP 设备上已顺利交付180 台反应腔，21 年付运134 腔，同比增235%。

    MOCVD 有望充分把握MiniLED 和第三代半导体高景气1）蓝光照明及LED 外延：公司蓝光照明Prismo A7 以及深紫外LED 外延片Prismo HiT3 产品，持续服务客户。2）MiniLED：21M6，公司发布用于MiniLED 量产的MOCVD 设备PrismoUniMax，该产品专为高产量而设计，当年已收到订单超过100 腔，此外公司还在开发针对MicroLED 应用的MOCVD 设备，有望进一步把握Mini/MicroLED 这一潜力领域的高成长性。3）第三代半导体：公司研发的GaN 功率器件用MOCVD 设备，目前已交付国内外领先客户验证，同时启动了碳化硅外延设备的研发。当前第三代半导体材料厂商大举扩产，有望强劲拉动对公司相关MOCVD 设备的需求。

    募投项目和新设备布局打开长期发展空间

    21 年公司完成82 亿元的定增项目，用于3 大项目。其中临港基地主要承担现有产品的改进升级，至21 年底工程进度为14%，南昌基地主要承担较为成熟产品的大规模量产，该基地至21 年底工程进度为2%，总部及研发中心则承担更高端的ICP、CCP、MOCVD 设备研发，以及HPCVD、导体薄膜LPCVD、ALD、EPI 等设备的开发。此外，公司21Q1 完成对睿励仪器1亿元的增资事项，使得公司得以进入检测设备领域。综合来看，公司通过募投和外部入股的方式，有望拓宽公司产品范围，打开长期发展空间。

    投资建议

    我们调整对公司2022/22/24 年公司归母净利的预测至11.8/15.4/19.4 亿元（此前预计22 -23 年归母净利为8.5/10.5 亿元，变动较大主要系公司非经常性损益中的大项为其他公司股权，其公允价值变动难以预测，造成对归母净利的预测波动较大），对应PE 为61/47/37倍，参考当前申万半导体97 倍PE（TTM），考虑到公司作为国内刻蚀、MOCVD 设备领军企业之一，技术实力国内领先，维持“买入”评级。

    风险提示

    行业景气不及预期，研发进展不及预期，客户处产品验证不及预期。