事件

    公司2021 年实现营业收入31.08 亿元，同比+36.72%，归母净利润10.11 亿元，同比+105.49%，扣非归母净利润3.24 亿元，同比+1291.10%；其中Q4 单季度营业收入10.35 亿元，同比+29.91%，归母净利润4.70 亿元，同比+118.14%，扣非归母净利润1.59 亿元，同比+131.82%。

    简评

    全年业绩快速成长， 新签订单大幅提高

    ①刻蚀设备高增长，驱动全年收入快速成长。公司实现营业收入31.08 亿元，同比增长36.72%。公司收入实现快速增长主要系行业高景气状态下，刻蚀设备收入大幅提高。

    ②受益于毛利率提升与费用控制，利润增速快于收入。公司全年实现归母净利润为10.11 亿元，同比+105.49%；扣非后归母3.24亿元，同比+1291.1%。公司利润增速显著高于收入主要有几方面原因：首先，非经常性损益有所提升。公司2021 年非经常性损益合计6.87 亿元，较2020 年4.69 亿元同比提升约46.48%。增量包括政府补助、部分投资受益等；其次，半导体设备毛利率显著提高至43.36%，同比提升5.69pct；最后，规模效应下费用率的优异控制，公司销售、管理、研发费用率分别下降0.88、1.97、1.76pct。上述因素共同驱动公司净利率由21.66%提升至32.54%。

    ③新签订单增长迅猛，为公司业绩增长提供保障。新签订单上，2021 年公司全年新签订单达41.3 亿元，较2020 年21.7 亿元大幅提升90.5%。在手订单上，公司年末存货17.62 亿元，较上年同期增长65.65%；合同负债13.72 亿元，同比增长131.76%。前者反映发出商品等增加，后者则代表预收账款显著增长。二者均反映公司当前在手订单饱满，为其后续业绩高速增长提供保障。

    刻蚀：得益于行业景气与ICP 刻蚀强竞争力，刻蚀业务高速成长①刻蚀设备收入占比高，增速快，为公司主要收入增长驱动力。

    2021 年公司刻蚀设备实现收入20.04 亿元，收入占比64.48%，同比增长55.44%。刻蚀设备增长迅猛主要得益于国内下游客户扩产 迅猛以及公司ICP 刻蚀设备推广顺利。同时，刻蚀设备毛利率达44.32%，已与海外头部公司AMAT、LAM 等接近。显示出公司产品超强竞争力。

    ②ICP 刻蚀设备增长迅猛，带动刻蚀设备高增长。公司刻蚀设备包括CCP 等离子刻蚀设备与ICP 刻蚀设备，前者已导入国内一线存储、逻辑代工客户，并进入全球龙头客户5nm 产线及下一代试生产线中，持续保持超强竞争力；后者在2021 年取得突破性进展，在15 家客户产线上进行100 多个刻蚀工艺验证并取得重复订单，全年实现交付134 腔，同比增长超235%。截至2021 年末，公司ICP 刻蚀设备已实现交付超180 腔。

    ③ICP、CCP 刻蚀设备新品不断，可覆盖市场空间持续扩大。公司刻蚀产品新品研发持续进行：2021 年3 月推出双反应台ICP 刻蚀设备 Primo Twin-Star，丰富了公司ICP 刻蚀设备品类；2021 年6 月，公司推出首台应用于8 英寸晶圆加工的CCP 刻蚀设备，已导入客户产线并开启更多工艺的开发。

    MOCVD：规模订单确认影响收入增长，毛利率显著改善①受行业周期波动及订单确认节奏影响，MOCVD 设备业绩略增。全年公司MOCVD 设备实现收入5.03 亿元，同比增长1.53%。公司MOCVD 设备收入增幅较少主要系：①下游LED 行业出现阶段性周期波动，对公司产品需求产生影响；②与国内头部客户签订的Mini LED MOCVD 设备规模订单尚未完成交付验收。不过从订单维度看，自2021 年6 月公司发布Mini LED MOCVD 设备来，已累计收到国内多家头部客户合计100 腔订单。此外，公司2022 年3 月还收到兆驰股份52 腔MOCVD 设备订单，均为后续MOCVD 设备收入增长提供支撑。

    ②产品成熟度提升，盈利能力显著改善。从盈利能力来看，2021 年公司MOCVD 设备毛利率已达33.77%，较2020 年18.65%大幅提升15.12pct。毛利率显著提升与公司产品成熟度、客户签单均有一定关系，展望后续，伴随公司产品成熟度进一步提升，MOCVD 设备毛利率有望实现稳中有升。

    ③Micro LED、GaN 功率器件量产MOCVD 设备已在路上。公司还在加快MOCVD 设备新产品研发，其中制造硅基GaN 功率器件用MOCVD 设备已在客户产线验证，制造Micro LED MOCVD 设备以及SiC 功率器件外延设备也在研发过程中。根据Yole 数据，全球GaN 基MOCVD 设备市场将从2020 年1.9 亿美金提升至2025年2.5 亿美金；功率器件外延设备市场将由2020 年2 亿美金提升至2025 年3.1 亿美金，二者均保持较快增长。

    行业高增长+公司新品布局将使其在未来实现较快增长。

    薄膜：新品研发进度超预期，将生成公司新成长曲线①研发进度：CVD 钨制程设备已具备满足工艺验证要求能力，EPI 设备已进入样机设备与制造、调试阶段。薄膜沉积设备为半导体三大核心设备之一。根据Gartner 统计，2021 年全球薄膜沉积设备在半导体设备中价值量占比为19.19%，介于刻蚀设备与光刻设备之间。公司薄膜沉积设备研发进展超预期，有望在更短时间内实现其薄膜沉积设备布局，显著提升公司可覆盖市场空间，为其平台化布局打下坚实基础。

    ②未来布局：加大CVD 设备布局，并布局研发ALD 设备。公司基于金属钨CVD 设备，也在进一步开发CVD与ALD 设备。其中ALD 设备为集成电路先进制程中关键设备，也是薄膜沉积设备中重要的一种，价值占比约为10%-15%。其在14nm 及以下制程的逻辑芯片、17nm 及以下的DRAM 芯片中有广泛应用。伴随公司陆续实 现CVD、EPI、ALD 等设备布局，将显著提高其薄膜设备覆盖领域。

    外延：外延发展同步进行，助力公司平台化布局参股公司陆续上市，加大投资上海睿励，进一步巩固协同效应。公司参股公司包括沈阳拓荆、山东天岳、德龙激光等，其中山东天岳实现上市，沈阳拓荆、德龙激光已获上市注册批复。此外，公司还于2021 年1 月完成对睿励仪器1 亿元增资事宜，增资后公司合计持有睿励仪器20.45%股份，成为公司第一大股东。此外，公司又于2022 年3 月完成对睿励仪器1.08 亿元增资事宜，增资后公司合计持有29.36%股份。睿励仪器为国内领先的前道工艺检测设备供应商，产品覆盖光学膜厚测量设备、光学缺陷检测设备等。公司通过内生+外延相结合方式，实现其平台化布局。

    投资建议：行业维度，芯片短缺背景下晶圆厂扩产叠加国内芯片生产自主可控，国内半导体设备行业迎来发展黄金机遇；公司维度，公司通过内生+外延相结合方式加快其平台型布局，力争实现更大可覆盖市场空间。考虑到2021 年公司非经常性收益较多，基于公司未来非经常性收益逐步减少假设，预计公司2022-2024 年实现归母净利润分别为11.22、12.52、16.53 亿元，同比分别增长10.9%、11.6%、32.1%，对应PE 分别为64.0x、57.3x、43.4x，维持“买入”评级。

    风险因素：

    ①行业景气度下行风险：若芯片供需紧张出现缓解，晶圆制造企业可能会推迟或降低其资本开支，进而对半导体设备需求产生不利影响。

    ②国产化进程不及预期风险：公司半导体设备销售深度受益于半导体设备国产替代趋势，如果国产替代进程放缓，可能会影响公司产品销售。

    ③疫情反复带来供应链紧张风险：国内疫情反复可能会对公司供应链产生扰动，影响其正常的生产经营。