半导体设备发力+MOCVD 设备蓄力，三维发展战略清晰，“增持”评级2021 年公司实现营收31.08 亿元，同比+36.72%，归母净利10.11 亿元，同比+105.49%，扣非后3.24 亿元，同比+1291.10%。半导体刻蚀设备销售高增长、毛利率提升、公司投资产生公允价值变动收益3.70 亿元、政府补贴同比增加0.95亿元是归母净利同比显著提升（高于我们预期的4.8 亿元）的主因。考虑到公司MOCVD 设备毛利率修复及投资产生公允价值变动收益，我们上调22～23 年盈利预测，预计22～24 年归母净利润为8.1（前值6.3）/11.2（前值8.5）/14.9亿元，EPS 为1.32（前值1.02）、1.81（前值1.38）、2.42 元，PE 88/64/48 倍，PS 17/12/9 倍。可比公司22 年PE、PS 均值为66、15 倍（Wind 一致预测），我们认为中微突出的技术及研发实力、海内外市场地位在本土稀缺度高，应有一定估值溢价，给予22 年PS 20x，目标价137.66（前值209.46）元。增持评级。

    半导体设备销售及订单高增长，MOCVD 设备销售企稳蓄力公司21 年新签订单 41.3 亿元，同比增长 90.5%。21 年刻蚀设备收入20.04 亿元，同比+55.44%，毛利率达44.32%；新签署的Mini LED MOCVD设备规模订单尚未确认收入，2021 年MOCVD 设备收入5.03 亿元，同比+1.53%，但 MOCVD 设备毛利率达33.77%，较上年18.65%大幅提升。

    21 年整体费用率同比-4.80pct 至26.56%，其中销售、管理、研发、财务费用率分别为9.53%、6.52%、12.79%、-2.28%，同比-0.88pct、-0.21pct、-1.76pct、-1.95pct。归母净利率同比+10.89pct 至32.54%。全年经营净现金流10.16 亿元，同比+20.08%/+1.70 亿元。

    瞄准世界科技前沿，持续稳步推进三维发展战略公司三维发展战略：既深耕集成电路关键设备领域，积极拓展泛半导体关键设备领域，又不断利用公司核心竞争力探索在新兴科技领域的市场机会。据公司年报，在确保等离子体刻蚀设备及 MOCVD 设备等核心业务高速稳定成长之外，公司在集成电路的薄膜设备领域正在开发 LPCVD 设备（低压化学气相沉积设备）和 EPI 设备（外延生长设备），并已取得了良好进展。

    此外公司正在筹划开发 ALD 设备（原子层沉积设备）和 ALE 设备（原子层刻蚀设备）等关键设备。我们认为，公司凭借深厚技术底蕴、持续研发投入打开成长边界，有望逐步成为平台化发展的半导体装备全球领先企业。

    风险提示：半导体周期性波动；国内芯片技术突破、产业投资不及预期；公司技术突破慢于预期：海外疫情加剧；知识产权争议和海外技术封锁；股东减持引发股价波动的风险。