3 月30 日，中微公司发布年报，公司2021 年实现营业收入31.08 亿元，同比增长36.7%；实现归母净利润10.11 亿元，同比增长105.5%；实现扣非净利润3.24 亿元，同比增长1291.1%。

    收入持续高增，盈利能力大幅提升。2021 年，公司营业收入为31.08 亿元，同比增长36.7%，主要得益于刻蚀设备收入的大幅增长。公司全年实现刻蚀设备收入20.04 亿元，同比增长55.4%。而MOCVD 设备方面，公司于2021 年6 月推出用于miniLED 的新产品，但新签订单尚未形成规模化的收入，全年收入5.03 亿元，同比增长1.5%。公司全年新签订单41.3 亿元，同比增长90.5%，合同负债13.72亿元，同比增长131.8%。

    盈利端，公司全年利润率提升强势。毛利率同比提升6 pct 至43.4%，主要由于MOCVD 设备毛利率同比提升15 pct 至33.77%，以及刻蚀收入占比提升，刻蚀设备毛利率44.3%，与去年同期维持一致。得益于此，公司全年扣非净利润达3.24 亿元，同比增长1291.1%，扣非净利率达10.4%。同时，公司推出新一期股权激励计划，于3 月29 日向1104 名员工一次性授予400 万股公司股票，授予价格50 元/股，覆盖公司全部职工人数的99.4%，与员工共享公司成长成果。

    CCP 技术持续领先，ICP 获得突破性进展。2021 年公司保持了CCP 刻蚀领域的领先优势，产品用于海外一线客户的5nm 芯片产线和下一代试产产线，在部分关键客户处份额已经进入前两名。2021 年出货量达到298 腔，同比增长40%，用于3D NAND 的订单稳步增长。

    与此同时，公司ICP 刻蚀设备亦迎来突破性进展，通过诸多客户的工艺验证并取得重复订单，全年出货量134 腔，同比增长超过235%。用于逻辑芯片5nm 以下、DRAM 芯片1X nm 制程和3D NAND 128 层以上的ICP 设备亦在研发中。

    MOCVD 新品订单饱满，多样薄膜沉积新品已在客户验证中。公司2021 年6月推出的用于miniLED 的MOCVD 设备在半年内收到100 腔以上批量订单，市场推广成果喜人。公司还积极布局用于功率器件应用的第三代半导体MOCVD 设备，GaN 用MOCVD 已经交付验证，SiC 外延MOCVD 设备研发已经启动。

    除刻蚀、MOCVD 两大主业以外，公司产品线拓宽稳步推进。用于钨接触孔填充的LPCVD 设备已经交付客户验证，用于GeSi 外延的EPI 设备已经进入样机设计、制造和调试阶段。此外公司还在筹划开发ALD 设备和ALE 等关键制程设备，产品矩阵有望持续拓宽。

    投资建议：我们预计公司2022/23/24 年营收分别为46.18/62.82/84.71 亿元，对应现价PS 分别为16/11/9 倍，考虑到公司作为国内半导体设备龙头的市场地位，有望享受下游扩产和国产化红利，维持“推荐”评级。

    风险提示：产品验证不及预期；下游行业周期性波动；市场竞争加剧。