事件概述：10 月27 日，中微公司发布2022 年三季报。公司3Q22 单季度实现收入10.71 亿元，同比增长45.92%；实现归母净利润3.25 亿元，同比增长123.91%；实现扣非净利润2.03 亿元，同比增长96.69%。

    收入稳健增长，订单增势不减。得益于国内晶圆厂的持续扩产和设备国产化推进，3Q22 公司维持了稳健的收入增长，单季度实现营收10.71 亿元，同比增长45.92%，环比增长4.75%。利润端，公司依旧保持了较高的盈利水平。3Q22毛利率达到45.78%，同比提升2.5 pct，环比提升0.5 pct，稳中有升，单季度实现归母净利润3.25 亿元，同比增长123.91%，净利率达到30.32%，同比提升10.6 pct。

    订单方面，公司依旧维持了较高的订单增速，前三季度新签订单56.4 亿元，同比增长60.24%，对应Q3 单季度新签订单25.83 亿元，同比增长58.37%。

    刻蚀主业稳健增长，MOCVD 新品放量。作为国内刻蚀设备龙头，公司在维持CCP 刻蚀领先地位，市场占有率不断提升，同时ICP 刻蚀亦实现收入放量。

    2022 年前三季度设备收入20.01 亿元，同比增长48.00%。包括CCP 刻蚀设备14.51 亿元，同比增长29.27%；ICP 刻蚀设备5.51 亿元，同比增长139.33%。

    对应Q3 单季度刻蚀设备收入7.02 亿元，同比增长42.11%。与此同时，公司MOCVD 新品收入开始释放，前三季度收入3.88 亿元，同比增长27.70%，对应Q3 单季度收入1.47 亿元，同比增长72.94%。

    多种在研新品蓄势待发。1）刻蚀：公司正在开发的用于逻辑器件大马士革刻蚀及用于极高深宽比应用的刻蚀机取得了很好的进展，将陆续进入市场。此外应客户的技术发展需求，公司亦在进行更高工艺节点的刻蚀设备开发，以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X 纳米的DRAM 芯片和200 层以上的3D NAND 芯片等产品的刻蚀需求。2）LPCVD：公司新开发的LPCVD 设备可用于逻辑器件接触孔填充及3D NAND 中多个节点，已经通过关键客户工艺验证。用于金属阻挡层和金属栅极制造的ALD 设备也在积极推进中。3）EPI：用于28nm 以下制程锗硅外延生长工艺的EPI 设备研发顺利，已进入样机制造和调试阶段。4）MOCVD：制造硅基氮化镓功率器件用MOCVD 设备已在客户产线上验证；制造Micro LED 应用的新型MOCVD 设备以及用于碳化硅功率器件应用的外延设备等也正在开发中。多种新产品顺利推进之下，我们看好公司在刻蚀/薄膜两大设备领域的平台化延伸和长线成长。

    投资建议：我们预计公司2022-2024 年营收分别为47.23/63.82/86.31 亿元，对应现价PS 分别为14/10/7 倍，考虑到公司作为国内半导体设备龙头的市场地位，有望享受下游扩产和国产化红利，维持“推荐”评级。

    风险提示：产品验证不及预期；下游行业周期性波动；市场竞争加剧。