2023 年业绩符合我们预期

    公司公布2023 年年报：公司实现收入62.64 亿元，同比增长32.1%；归母净利润17.86 亿元，同比增长52.7%，符合我们预期。

    发展趋势

    营业收入快速增长，刻蚀设备新签订单持续提升：公司2023 年实现营业收入62.64 亿元，同比增长32.1%，其中刻蚀设备收入为47.03 亿元，同比增长49.43%，公司2023 年新增订单金额约83.6 亿元，同比增长32.3%，其中刻蚀设备新增订单约69.5 亿元，同比增长约60.1%，刻蚀设备收入订单快速增长主要原因为：1）CCP 设备已实现28nm 以上逻辑器件及存储器件的大部分刻蚀应用，同时针对28nm 及以下的大马士革刻蚀工艺公司正在客户端现场验证，验证进展顺利。2）ICP 设备公司推出了更高深宽比结构的新设备，扩展了设备验证工艺范围，并在DRAM 中的高深款比多晶硅掩膜应用上在客户的产线认证成功。

    归母净利润及扣非归母净利润持续增长：公司2023 年实现归母净利润17.86 亿元，同比增长52.7%，扣非归母净利润11.91 亿元，同比增长29.58%，净利润率达28.5%，环比提升3.8ppt，扣非归母净利润率达19%，环比基本持平，公司2023 年毛利率达45.6%，较2022 年环比略有提升，销售费用/管理费用/研发费用率分别为7.9%/5.5%/13%，较2022 年环比变动-0.7/+0.5/+0.2ppt，其中非经常性损益5.94 亿元主要为公司出售部分持有的拓荆科技公司股票所致。

    薄膜设备布局初显成效，产品线持续拓展：公司积极拓展薄膜设备领域产品，2023 年公司新开发出4 款薄膜沉积产品，其中首台CVD 钨设备已付运到关键存储客户端验证评估，已通过客户现场验证，并获得客户重复量产订单；同时公司进一步开发高深宽比的钨CVD 设备及钨ALD 设备，目前已通过客户现场验证。此外公司正积极开发应用于高端存储及逻辑芯片的ALD 氮化钛设备。我们认为随着公司薄膜沉积领域新设备陆续推出，未来有望为公司收入及利润提供全新增长点。

    盈利预测与估值

    我们维持公司盈利预测不变，预计公司2024/2025 年实现营业收入89.49/120.85 亿元，实现归母净利润17.98/27.87 亿元，当前股价对应2024/2025 年53.4/34.5xP/E。我们维持目标价173 元不变，对应公司2024/2025 年59.7/38.4xP/E，较当前股价仍有11.5%上行空间，维持跑赢行业评级。

    风险

    晶圆厂资本开支下滑，新产品研发验证不及预期，零部件供应风险。