营收&扣非归母净利润稳健增长。公司2025 年一季度营收21.7 亿元，同比+35.4%，营收显著增长主要得益于公司高端刻蚀设备付运量显著提升，LPCVD、ALD 等新产品形成重复订单。2025Q1 归母净利润为3.1 亿元，同比+25.7%；扣除非经常性损益后的净利润为3.0 亿元，同比+13.4%，主要得益于营收增长带来的毛利增加。

    　　公司毛利率环比改善，研发投入持续提升。2025Q1 毛利率为41.5%，环比+2.2pct；销售净利率为14.2%，同环比-1.3/-5.5pct；扣非净利率为13.7%，同比-2.7pct。期间费用率为28.8%，同比+4.5pct，其中销售费用率为4.3%，同比-4.2pct，管理费用率为4.1%，同比-0.4pct，研发费用率为21.4%，同比+8.0pct，财务费用率为-0.9%，同比+1.1pct。目前公司在研项目涵盖六类设备和20 多个新设备，Q1 研发投入为6.9亿元，同比大增90.5%。

    　　存货&合同负债同比高增，在手订单充足。截至2025Q1 末公司合同负债为30.7 亿元，同比+162.4%；存货为74.5 亿元，同比+33.4%；2025Q1 公司经营性现金流为3.8 亿元。

    　　刻蚀产品持续领先，镀膜产品拓展顺利。（1）CCP 设备：在逻辑领域已对28nm 以上的绝大部分CCP 刻蚀应用和28nm 及以下的大部分CCP 刻蚀应用形成较为全面的覆盖，且已有大量机台进入国际5nm 及以下逻辑；截至2024Q4 已交付4000 个反应台。在存储领域，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60：1 深宽比结构的能力，成功进入2D&3D 存储芯片产线。同时，公司积极布局超低温刻蚀技术，积极储备≥90:1 深宽比刻蚀技术。（2）ICP 设备：公司ICP 设备在客户端安装腔体数量近四年CAGR 超100%，截至2024 年已累计安装超1025 个反应台，覆盖超50 个逻辑、DRAM、3D NAND 等客户；公司的TSV 刻蚀设备也已应用于先进封装。此外，公司正在研发用于5-3nm 逻辑芯片的ICP 刻蚀机。（3）MOCVD 设备：积极布局第三代半导体设备，现已在LED 等GaN 基设备市场占据领先地位，并在Micro-LED 领域的MOCVD 设备开发上取得良好进展。用于SiC 器件的外延设备已付运样机至国内领先客户开展验证测试。（4）薄膜沉积设备：公司首台CVD 钨设备付运到关键存储客户端验证评估，已通过客户现场验证，并获得客户重复量产订单，公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD 氮化钛、钛铝、氮化钽设备也已完成多个逻辑/存储客户验证；EPI 设备也已完成多家先进逻辑器件与MTM 器件客户的工艺验证，并获得了客户的高度认可。（5）量检测设备：成立子公司超微公司引入电子束检测设备领军人才，已规划覆盖多种量检测设备。

    　　盈利预测与投资评级：我们维持公司2025-2027 年归母净利润为24.3/34.0/44.5 亿元，当前股价对应动态PE 分别为48/34/26 倍，维持“买入”评级。

    　　风险提示：晶圆厂扩产节奏不及预期，新品研发&产业化不及预期等。