事件描述

    　　公司发布2026 年第一季度报告，2026Q1 实现营业收入29.15 亿元，同比+34.13%；归母净利润9.30 亿元，同比大幅增长197.20%；扣非净利润4.78 亿元，同比+60.09%。

    　　事件评论

    　　业绩超预期，扣非净利润亮眼。公司一季度营收保持超30%的高速增长，归母净利润爆发式增长197.20%主要得益于主营业务规模扩大带来的毛利提升，以及公司本期出售了部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益约3.97 亿元。扣非净利润表现同样亮眼，同比增长60.09%，展现了极强的主业创收能力。

    　　持续加大研发投入，支撑多款新产品开发。2026Q1 公司整体研发支出高达9.08 亿元，同比增长32.15%，研发支出占营业收入的比例达到31.14%，有力支撑了公司涵盖六大类、超20 款新设备的研发进程。

    　　刻蚀设备基石稳固，超高深宽比技术实现行业领跑。截至2026Q1，公司累计已有超过8300 个反应台在国内外180 余条生产线全面量产。其中，CCP 刻蚀方面，下一代90:1超高深宽比低温刻蚀设备已运付客户端验证，全面覆盖存储器刻蚀中各类超高深宽比需求。ICP 刻蚀方面，第二代Primo Angnova 在3D DRAM 中取得了140:1 的高深宽刻蚀结果并交付领先客户；全新化学气相刻蚀设备Primo Domingo 实现大于700:1 的业界领先SiGe/Si 高选择比，满足GAA 和3D DRAM 关键工艺要求。

    　　薄膜与MOCVD 新品多点开花，打造更多增长曲线。薄膜设备（LPCVD、ALD、EPI、PVDCuBS 和PECVD 等）在先进存储和逻辑市场新增付运量快速增长。其中，减压EPI设备已在成熟制程客户端验证成功，并付运先进制程客户端进入量产验证阶段。MOCVD领域，公司稳固氮化镓基市场领先地位的同时，用于SiC 和GaN 功率器件、MicroLED以及红黄光LED 的四款新型MOCVD 均已进入客户端验证阶段，部分已取得批量订单。

    　　投资建议：公司2026Q1 业绩超预期，极强的研发转化效率正驱动公司稳步迈入平台化发展新阶段。随着公司刻蚀设备在先进制程市占率的不断提升，以及薄膜设备、泛半导体设备的持续放量，预计公司2026 年全年营收与利润将持续维持高增长态势，预计2026-2027 年公司营收分别为165、213 亿元，维持“买入”评级。

    　　风险提示

    　　1、限制政策进一步加剧的风险；

    　　2、半导体景气度不及预期的风险；

    　　3、公司在新工艺和新产品验证进度不达预期的风险。