沈阳芯源微电子成立于2002 年，与中微半导体、北方华创、盛美半导体、上海睿励等同样耕耘10 多年，致力于集成电路工艺设备国产化。公司是国内唯一一家研发与制造涂胶显影设备的企业，目前已有前道I-line 涂胶显影机在长江存储上线进行工艺验证，前道Barc（抗反射层）涂胶设备在上海华力通过验证，已陆续获得株洲中车、青岛芯恩、上海积塔、宁波中芯、昆明京东方、厦门士兰等多个前道大客户的订单，涂胶显影设备的进口替代已经起航。

    支撑评级的要点

    国内集成电路工艺设备企业中，芯源微电子是定位于涂胶显影设备的唯一厂商。沈阳芯源微电子成立于2002 年，和睿励、安集微电子、盛美半导体、上海微、中微半导体、北方微等老牌国产半导体设备制造商一样，诞生于同一个时代，至今已有18 年经营历史和技术积淀。公司集成电路客户主要包括台积电、上海华力、中芯国际、长江存储、华为、华天科技、长电科技、通富微电等。

    全球涂胶显影设备市场规模将增至25亿美元，EUV工艺是增量。根据VLSI、TEL 等的预计，2022-2023 年全球涂胶显影设备市场规模将达到25 亿美元，相比2018 年，EUV 工艺是整体市场规模增量的主要来源。中国（含台湾地区）前道涂胶显影设备销售额预计由2018 年的8.96 亿美元，增至2023年的10.26 亿美元。

    国内外涂胶显影设备被TEL 垄断，国产化处于初期。全球涂胶显影设备市场上TEL 市占率达到87%，而DNS、SEMES、Suss 等合计占比仅为13%。TEL 在中国大陆涂胶显影设备市场中的市占率约超过90%，我国涂胶显影设备的国产化率不超过5%，一线主流客户的涂胶显影设备国产化率接近为零，远低于刻蚀设备、清洗设备、CMP 和PVD 设备国产化进程。

    芯源的涂胶显影设备已进入多条晶圆产线。通过多年的技术积累以及承担国家02 重大专项，芯源已经成功掌握多种涂胶显影核心技术，并拥有多项自主知识产权。尽管芯源的涂胶显影设备尚处于产业化初期，但其前道I-line涂胶显影机已在长江存储上线进行工艺验证，可满足客户0.18μm技术节点加工工艺；前道Barc（抗反射层）涂胶设备已在上海华力上线测试应用，可满足客户28nm 技术节点加工工艺。

    估值

    根据我们对国产化率及国内晶圆厂建设进度的判断，预计芯源微未来3-5年内业绩高速增长，并参考A 股半导体板块估值，首次给予买入评级。

    风险因素

    晶圆厂扩产不如预期；供应商供货不稳定、技术突破受阻等风险。