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拓荆科技(688072)机构评级研报股票分析报告

 
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拓荆科技-U(688072):引领薄膜沉积设备进口替代 业绩持续高速增长

http://www.chaguwang.cn  机构:东吴证券股份有限公司  2022-06-22  查股网机构评级研报

投资要点

    本土半导体薄膜沉积设备龙头,业绩持续快速增长公司是本土半导体薄膜沉积设备龙头,产品覆盖PECVD、SACVD 和ALD,其中PECVD 和SACVD 是国内唯一一家产业化应用企业,相关产品成功供货中芯国际、华虹集团、长江存储等主流客户,引领进口替代同时,业绩实现快速增长。1)收入端:

    2021 年公司实现营收7.58 亿元,2018-2021 年CAGR 为121%,2021 年PECVD 收入6.75 亿元,占当年营收比重达89.11%,为收入最大来源。2)利润端:2018-2021 年公司扣非销售净利率为-212.23%、-24.86%、-13.11%和-10.82%,虽尚未真正实现盈利,但扣非销售净利率持续改善;我们注意到2021-2022Q1 公司毛利率分别为44.01%和47.44%,增幅明显,甚至略高于本土前道刻蚀龙头毛利率。我们认为规模效应下,期间费用率下降,公司盈利能力存在较大提升空间。截至2021 年9 月,公司在手订单超过15 亿元,2022Q1 末存货和合同负债分别达到12.94 和7.80 亿元,分别较2021Q3末增长32%和75%,充足的订单有望支撑公司业绩持续快速增长。

    薄膜沉积设备是高价值量占比环节,公司产品竞争优势明显全球晶圆产能东移,中国大陆成为全球晶圆扩产中心,根据集微咨询,中国大陆未来5 年将新增25 座12 英寸晶圆厂,总规划月产能将超过160 万片,可见中国大陆对晶圆设备的需求有望长期维持高位。1)薄膜沉积设备作为晶圆制造三大核心设备之一,在晶圆制造设备中价值量占比高达25%,仅次于刻蚀设备,其中PECVD 和ALD在薄膜沉积设备中占比分别达到33%和11%。2)先进制程工艺使得薄膜沉积设备的需求存在量价齐升逻辑,我们预计2025 年全球&本土半导体薄膜沉积设备市场规模将分别达到340 和136 亿美元,2021-2025 年CAGR 分别为16%和25%。3)全球半导体薄膜沉积设备仍由AMAT、LAM、TEL 等海外龙头主导,公司在集成电路PECVD 和SACVD 领域先发优势明显,ALD 同样是国内领先设备企业,有望充分受益于本土晶圆厂扩产浪潮。

    PECVD 仍有较大国产化提升空间,SACVD、ALD 成新的增长点公司在稳固PECVD 市场竞争力的同时,SACVD&ALD 也持续取得产业化突破,成长空间不断打开。1)PECVD:公司核心产品,在国内市占率依然较低,2021 年不到6%。公司PECVD 已全面覆盖逻辑、DRAM 存储、FLASH 闪存各技术节点通用介质薄膜,并在14nm 及10nm 以下制程积极配合客户产业验证,随着客户验证顺利推进,有望延续高速增长;2)SACVD:适用于45-10nm 沟槽填充,先进制程下渗透率存在提升趋势,公司产品体系不断完善,2020 年以来客户验证机台快速增加,有望进入放量阶段;3)ALD:膜厚精准可控&台阶覆盖率极高,技术优势突出,公司率先实现PE-ALD 产业化,同时布局Thermal-ALD,IPO 募投项目将助力大规模产业化进程。

    盈利预测与投资评级:我们预计2022-2024 年公司营业收入分别为12.64、18.61和25.78 亿元,当前市值对应动态PS 分别为15、10 和8 倍。公司PECVD 稀缺性显著,叠加SACVD&ALD 放量,成长性突出,首次覆盖,给予“买入”评级。

    风险提示:晶圆厂资本开支不及预期、Demo 机台无法实现最终销售等。

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