投资要点：

    公司自成立以来专注于薄膜沉积设备的研发，形成PECVD、ALD、SACVD三大设备系列产品，广泛应用于国内主流晶圆厂产线，打破了国际厂商的垄断。

    PECVD设备：国内唯一实现产业化应用，业绩有望持续高增长2020年PECVD设备市场规模约57亿美元，在薄膜沉积设备市场中占比最高，约33%。从供给来看，市场主要被国际巨头AMAT、LAM、TEL垄断，国内仅拓荆科技生产。公司是国内唯一实现PECVD设备的供应商，深耕薄膜沉积设备行业十余载，PECVD设备业务逐渐进入收获期，2020年营收为4.18亿元，占全球市场1%左右；2021年营收6.75亿元，同比增长61.39%，随着国内晶圆厂的扩产加速，公司业绩有望维持高增长。

    ALD、SACVD设备：首台套相继出货，终端验证进展有望提速2020年全球ALD设备市场规模约19亿美元，随着半导体先进制程产线数量增加，预计2026年市场规模约为32亿美元。从竞争格局来看，TEL、ASM合计占比约60%，而国内企业布局相对较慢，几无营收贡献。SACVD设备具有较高的填沟能力，应用于高深宽比薄膜沉积工艺中，目前国内仅公司实现产业化应用。拓荆积极布局ALD、SACVD设备，并于2018年确认首台ALD设备收入，2021年确认首台SACVD设备收入，随着研发进展顺利，终端验证有望提速。

    盈利预测、估值与评级

    预计公司2022-24年营业收入分别为13.39/19.79/26.93亿元，增速分别为76.68%/47.75%/36.09%，三年CAGR为52.59%；实现净利润1.45/2.97/4.41亿元，增速分别为112%/105%/49%，三年CAGR为86.10%；实现EPS为每股1.15/2.35/3.49元。根据DCF估值，我们认为公司的合理股价区间为166.53-340.91元；同时结合可比公司2022年平均PS为16倍，考虑到公司是国内PECVD设备龙头，业绩处于快速增长初期，我们给予公司2022年20倍PS，目标价为211.76元，首次覆盖，给予“增持”评级。

    风险提示：

    晶圆厂扩产不及预期；新品研发不及预期；部分原材料外购受限引发的风险。