拓荆科技是国内CVD 设备龙头，布局PECVD、ALD、SACVD 三大产品线。

    2021 年全球薄膜沉积设备市场空间预计超200 亿美金，而公司PECVD 设备在国内产线份额仍然较低，国产替代空间巨大；薄膜沉积行业壁垒较高，国内竞争格局优于清洗等设备；公司当前在手订单饱满，22H1 扣非归母净利润大幅扭亏为盈。因此我们预计公司长期成长性向好，首次覆盖，给予 “增持”评级。

    拓荆科技是国内CVD 设备龙头，产品覆盖国内主流逻辑/存储客户。拓荆科技于2010 年成立，布局PECVD、ALD、SACVD 三大产品线，客户覆盖国内中芯国际、华虹、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等主要产线。

    公司产品导入国内14nm 及以上制程产线，并实现28nm 及以上全介质薄膜全覆盖，目前已开展10nm 及以下制程的验证测试。

    PECVD 设备快速放量，2022 上半年实现大幅扭亏为盈。公司在2019-2020年间实现产品快速导入验证，在2021 年至今实现PECVD 设备快速放量。

    22H1 公司收入7.6 亿元，同比+74%，考虑到公司截至22H1 合同负债达10.9亿元，自22Q1 以来连续高增长，截至22H1 存货中发出商品高达9.3 亿元，因此预计公司在手订单饱满，未来收入增长动力强劲；公司在22Q2 之前一直亏损，但随着产品毛利率不断提升、规模效应逐步体现，公司在22Q2 实现大幅扭亏为盈，22Q2 单季度7081 万元，扣非归母净利率高达17%，展望后续规模化效应继续体现，预计未来净利率曲线上升态势将更为明显。

    工艺复杂性构筑行业高壁垒，制程及工艺迭代带来市场空间不断扩大。薄膜沉积工艺基本伴随芯片工序全流程，性能直接影响芯片的质量，在存储/逻辑不同芯片、以及在不同的模块工艺中，薄膜的种类、性能要求均有所不同，构筑行业较高壁垒；薄膜沉积设备随着工艺不同也不断迭代，2021 年全球薄膜沉积设备市场空间预计超200 亿美金，伴随全球晶圆产能扩充、制程进步及工艺迭代，市场空间预计持续增长，同时ALD 等设备预计带来新增量。

    薄膜沉积设备被海外垄断，拓荆国内份额成长空间巨大。薄膜沉积设备被海外AMAT、LAM、TEL、ASM 等龙头垄断，但考虑到2022-2023 年国内产线扩产进度预计快于国外，叠加海外交期延长及中美关系紧张，公司未来有望受益于国内中芯国际、长江存储等厂商加速扩产，持续进行国产替代；同时，相较清洗等其他设备，薄膜沉积市场空间更大，同时国内PECVD 等设备竞争格局相对更好，而公司当前份额相对较低，因此未来在国内产线份额有较大成长空间。

    投资建议。拓荆科技是国内CVD 设备龙头，近年来产品快速放量，叠加在下游客户份额不断提升，收入快速增长。展望未来，我们认为公司当前在手订单饱满，产线份额依旧较低，因此收入预计将保持高速增长；同时公司22H1 大幅扭亏为盈，伴随规模效应和议价能力增强，我们预计公司盈利能力仍将不断增强，长期收入和利润成长动力向好。我们预计公司22/23/24 年收入为15.2/25.6/34.3 亿元，对应PS 为19.0/11.3/8.4，归母净利润为2.76/4.90/7.07亿元，对应PE 为104.5/58.8/40.7，首次覆盖，给予 “增持”投资评级。

    风险提示：收入受下游晶圆厂投资周期影响、国际贸易摩擦加剧影响供应链 安全、市场竞争加剧、DEMO 机台无法实现最终销售、税收优惠减少、产品验证周期较长的风险。