拓荆科技发布半年报公告：公司上半年实现营业收入5.23 亿元，同比增加365%；归母净利润1.08 亿元，同比增加640%；扣非归母净利润0.49 亿元，2021 年上半年同期亏损0.82 亿元。

    投资要点

    收入同比大幅增长，扣非归母净利润扭亏为盈公司上半年实现营业收入5.23 亿元，同比增加365%；2 季度单季实现营收4.16 亿元，同比增长658%，设备销售订单持续增长；2022 年上半年毛利率46.8%，同比增长8.42pct；销售费用率11.6%，同比减少12pct；管理费用率4.54%，同比减少8.6pct；研发费用率22.5%，同比下滑49.2pct，主要系营收同比大幅增长所致；归母净利润1.08 亿元，同比增加640%；扣非归母净利润0.49 亿元，去年上半年同期亏损0.82 亿元；上半年净利率20.4%，2 季度单季净利率28.7%，盈利能力大幅提升。公司2022 年上半年合同负债10.9 亿元，2021 年年底为4.89 亿元；存货为15.6 亿元，2021 年年底为9.5 亿元，显示公司在手订单充裕，奠定后续增长基础。

    PECVD 设备收入占比最大，产业化进程持续推进公司主要产品包括PECVD、ALD 和SACVD 设备，上半年分别实现收入4.67/0.08 /0.41 亿元。其中PECVD 设备收入同比增长345%。上半年PECVD 中PF-300T 设备已获得现有及新客户验收； NF-300H 备在 DRAM 存储芯片制造领域实现首台产业化应用； PE-ALD 系列产品在逻辑芯片、3D NAND FLASH、DRAM 存储芯片制造领域的验证进展顺利，ALD 反应腔通过现有客户验收；积极布局 PE-ALD 先进薄膜工艺的应用进展；Thermal-ALD 设备已完成产品开发并取得客户订单。SACVD产品持续拓展应用领域， BPSG 及 SA TEOS 薄膜工艺在40/28nm 逻辑芯片制造领域取得客户验收。截至2022 年上半年公司设备在客户端产线生产产品的累计流片量已由截至2021 年 底的4600 余万片增加至 7100 余万片。

    新产品研发进展顺利，薄膜沉积市场空间广阔

    新产品方面，公司开发TS-300（多边形高产能平台）、基于高产能平台的热处理原子层沉积（Thermal-ALD）、高密度等离子增强化学气相沉积（HDPCVD）设备和紫外线固化处理（ UV Cure ） 设备等新产品， 均已取得客户订单， 其中HDPCVD 系列设备及UV Cure 设备已出货至客户端进行产业化验证。根据SEMI 和北京欧立信数据，2021 年全球薄膜沉积设备市场规模达210 亿美元，对应中国大陆市场约60 亿美元；其中PECVD/SACVD/ALD 设备对应全球市场规模分别约69/23/不到13 亿美元，公司目前是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD 设备和 SACVD 设备厂商，也是国内领先的集成电路 ALD 设备厂商。

    盈利预测

    考虑到公司作为薄膜沉积领域设备龙头，目前是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD 设备和 SACVD 设备厂商，也是国内领先的集成电路 ALD 设备厂商，市场空间广阔且竞争壁垒高，在手订单充裕，业绩增长动能十足，正处于高速发展期，预测公司2022-2024 年收入分别为13.4、20.3、27.3 亿元，归母净利润分别为2.18、3.55、5.29 亿元，当前股价对应PS 分别为26、17、13 倍，首次覆盖，给予“买入”投资评级。

    风险提示

    半导体市场需求不及预期；下游晶圆制造产能扩产不及预期；零部件短缺风险；新设备研发进度不及预期等。