国内薄膜沉积设备龙头企业，未来核心受益于进口替代加速拓荆科技成立于2010 年，专注于薄膜沉积领域，是国内唯一一家实现PECVD 和SACVD 产业化应用的公司，同时在ALD 领域也处于国内龙头地位。公司目前已进入到中芯国际、长江存储等国内头部制造企业，同时在海外客户拓展上有所突破。薄膜沉积作为半导体制造三大核心工艺之一，目前国产化率不足10%，未来替代空间较大，公司作为国内头部企业将核心受益。我们预计公司2022-24 年收入为16.9/27.4/38.0 亿元，归母净利润为3.8/4.1/7.6 亿元。首次覆盖给予买入评级，目标价339.6 元，基于15.7 倍2023 年PS。

    　　行业：2023 年设备市场进入衰退，远期受益于工艺平台持续演进我们预计2023 年全球半导体重资产企业资本开支将同比倒退8.1%，同时全球半导体前道设备市场规模将同比下降23%左右。薄膜沉积、光刻、刻蚀是半导体前道三大工艺，我们预计2022 年薄膜沉积占据半导体前道设备的22%，市场空间达到220 亿美元，2025 年市场规模有望突破340 亿美元，2021-25 年CAGR 达到11.5%。从设备的工艺类别来看，PECVD 市场规模占全球薄膜沉积设备市场中的33%，占比位列第一，溅射PVD 和ALD 分别以19%和11%位列第二、第三，而SACVD 属于新兴设备类型，占比较小，归于其他薄膜沉积设备类下。

    　　产品+客户+研发三大核心竞争优势巩固龙头地位我们认为拓荆科技的核心竞争力主要在于1）国产薄膜沉积设备龙头，坐拥中芯国际、长江存储等大客户；2）持续拓宽产品与工艺覆盖，扩增潜在市场空间，公司目前最高可适配到14nm 逻辑芯片、17nm DRAM 以及128LFLASH 节点；3）研发实力雄厚，募投项目助力工艺突破及设备产能扩张。

    　　半导体设备国产替代加速背景下，这些核心竞争力有望帮助拓荆科技实现营收业绩快速增长，进一步收获更大市场份额，巩固其龙头地位。

    　　估值：首次覆盖给予“买入”评级，目标价339.6 元受益于进口替代加速以及工艺覆盖度提升，我们预计公司2022-24 年收入为16.9/27.4/38.0 亿元，归母净利润为3.8/4.1/7.6 亿元。以PS 来看，目前可比公司2023 年PS 平均数为9.9 倍，考虑到公司所处薄膜沉积设备赛道空间广阔及公司稀缺性我们给予一定估值溢价，对应15.7x 23PS，我们首次覆盖拓荆科技给予“买入”评级，目标价339.6 元。

    　　风险提示：1）管理层美籍人士研发运营活动受影响；2）半导体下行周期对应设备厂新增订单缩减风险；3）中美贸易摩擦升级导致收入不达预期风险；4）薄膜沉积设备行业竞争加剧风险。